[发明专利]一种氯化亚铜中空立方体的制备方法在审
| 申请号： | 201910557868.4 | 申请日： | 2019-06-15 |
| 公开（公告）号： | CN110156065A | 公开（公告）日： | 2019-08-23 |
| 发明（设计）人： | 苗中正;高洁;蔡荣城 | 申请（专利权）人： | 盐城师范学院 |
| 主分类号： | C01G3/05 | 分类号： | C01G3/05 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 224000 江苏省盐城市希望*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 中空立方体 氯化亚铜 氯化铜溶液 制备 氯化亚铜晶体 铜箔 工业化批量生产 乙醇混合溶剂 薄膜表面 反复利用 界面反应 均匀涂覆 快速制备 去离子水 形貌可控 乙醇清洗 调控剂 稀盐酸 溶剂 刮除 烘干 局限 节约 | ||
【权利要求书】：
1.一种氯化亚铜中空立方体的制备方法，包括如下步骤：
(1)采用水与乙醇混合溶剂作为氯化铜溶液的溶剂，得到浓度范围为0.01-1mol/L的氯化铜溶液，向氯化铜溶液中添加稀盐酸作为调控剂；
(2)在温度为60-90℃下将氯化铜溶液涂覆于铜箔表面，氯化铜溶液的添加量为0.5L/m2，反应快速发生，反应时间为0.1-600s，反应结束后用去离子水和乙醇清洗，干燥后置于惰性气体中保护。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)中水与乙醇混合溶剂中水与乙醇的体积比为0.1∶1-10∶1。
3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)中氯化铜溶液的浓度应处于氯化铜在溶剂中的饱和溶解度以内。
4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)中稀盐酸质量分数为10％，添加稀盐酸溶液体积为氯化铜溶液体积的1-10％。
5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(2)中所述氯化铜溶液涂覆于铜箔表面方法适用于滴涂、线棒涂膜法、喷涂法。
6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(2)中所述铜箔适用于经过表面抛光处理的铜箔。
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