[发明专利]飞秒激光直写与DMD无掩膜光刻一体化打印设备

权利要求书

1.飞秒激光直写与DMD无掩膜光刻一体化打印设备，其特征是：包括运动平台(1)、DMD无掩膜光刻系统投影物镜调节套筒(2)、DMD无掩膜光刻系统投影物镜(3)、飞秒激光直写系统显微物镜调节套筒(4)、飞秒激光直写系统显微物镜(5)、样品架(6)、三维精密可控位移平台(7)、飞秒激光直写系统(8)以及DMD无掩膜光刻系统(9)，所述运动平台(1)距离光学平台35厘米，所述DMD无掩膜光刻系统投影物镜调节套筒(2)和飞秒激光直写系统显微物镜调节套筒(4)均设置在运动平台(1)上，所述DMD无掩膜光刻系统投影物镜(3)设置在DMD无掩膜光刻系统投影物镜调节套筒(2)上，DMD无掩膜光刻系统投影物镜(3)与DMD无掩膜光刻系统(9)连接；所述飞秒激光直写系统显微物镜(5)设置在飞秒激光直写系统显微物镜调节套筒(4)上，飞秒激光直写系统显微物镜(5)与飞秒激光直写系统(8)连接；所述三维精密可控位移平台(7)与样品架(6)连接；所述飞秒激光直写系统(8)和DMD无掩膜光刻系统(9)均设置在光学平台上。

2.根据权利要求1所述的飞秒激光直写与DMD无掩膜光刻一体化打印设备，其特征是：所述飞秒激光直写系统(8)包括红外飞秒激光器(11)、衰减片(12)、透镜Ⅰ(13)、光闸(14)、透镜Ⅱ(15)、反射镜Ⅰ(16)、振镜(17)、透镜Ⅲ(18)、透镜Ⅳ(19)、二向色镜(20)、反射镜Ⅱ(22)、透镜Ⅴ(23)、CCD摄像头(24)、照明光源(25)以及计算机Ⅰ(26)，所述红外飞秒激光器(11)出射激光依次经过衰减片(12)、透镜Ⅰ(13)、光闸(14)以及透镜Ⅱ(15)，经过反射镜Ⅰ(16)反射光进入振镜(17)，振镜(17)出射光经过由透镜Ⅲ(18)和透镜Ⅳ(19)组成的望远系统和二向色镜(20)进入飞秒激光直写系统显微物镜(5)；所述照明光源(25)发出的光经过飞秒激光直写系统显微物镜(5)透过二向色镜(20)经过反射镜Ⅱ(22)反射，通过透镜Ⅴ(23)聚焦后进入CCD摄像头(24)。

3.根据权利要求1所述的飞秒激光直写与DMD无掩膜光刻一体化打印设备，其特征是：所述DMD无掩膜光刻系统(9)包括LED光源(31)、DMD空间光调制器(32)、分光棱镜(33)、CCD相机(34)、转接镜(35)、45°反射镜(36)、图像生成器(37)、DMD控制器(38)以及计算机Ⅱ(39)，所述LED光源(31)出射光进入DMD空间光调制器(32)经分光棱镜(33)一部分进入CCD相机(34)，一部分经过转接镜(35)和45°反射镜(36)进入DMD无掩膜光刻系统投影物镜(3)；所述计算机Ⅱ(39)与图像生成器(37)连接，图像生成器(37)与DMD控制器(38)连接。

4.根据权利要求3所述的飞秒激光直写与DMD无掩膜光刻一体化打印设备，其特征是：所述DMD空间光调制器(32)的芯片由1024*768个微反射镜阵列式排布组成，每个反射镜尺寸为13.68μm*13.68μm，且由控制器单独控制。

5.根据权利要求2所述的飞秒激光直写与DMD无掩膜光刻一体化打印设备，其特征是：所述飞秒激光直写系统(8)的光学元件在光学平台上的位置通过准直激光器(40)采用自准直法调节。

6.根据权利要求3所述的飞秒激光直写与DMD无掩膜光刻一体化打印设备，其特征是：所述DMD无掩膜光刻系统(9)的光学原件在光学平台上的位置通过准直激光器(40)采用自准直法调节。