[发明专利]整平剂、电镀液及其在电镀具有光致抗蚀剂限定特征器件中的应用

权利要求书

1.一种整平剂，其特征在于，所述整平剂包括功效成分，所述功效成分为咪唑类化合物、含醚键链状胺类化合物和二环氧化物的反应产物；所述功效成分的数均分子量在500～5000的范围内；

所述咪唑类化合物具有以下式(1)所示的结构：

其中，R₁、R₂和R₃各自独立地选自H、取代或未取代的烷基、取代或未取代的烷氧基、取代或未取代的环烷基、取代或未取代的杂环基、取代或未取代的芳香基团、取代或未取代的杂芳香基团、硅烷基、酮基、羰基、羧基、酯基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨基、氰基、氨基甲酰基、卤甲酰基、异氰基、异氰酸酯基、硫氰酸酯基、异硫氰酸酯基、羟基、硝基或卤素。

2.根据权利要求1所述的整平剂，其特征在于，所述咪唑类化合物、所述含醚键链状胺类化合物和所述二环氧化物的摩尔比为(0.1-3):(0.1-3):1。

3.根据权利要求1所述的整平剂，其特征在于，所述R₁、R₂和R₃各自独立地选自H、C1-C8烷基或苯基，C1-C8烷基或者苯基任选进一步被一个或多个C1-C6烷基或羟基取代；且R₁、R₂和R₃不同时为H。

4.根据权利要求1所述的整平剂，其特征在于，所述含醚键链状胺类化合物具有以下式(2)所示结构：

R₄是如式(3)所示的连接基团，

其中，Q₁为氮原子或碳原子；

当Q₁为氮原子时，R₅、R₆、R₇和R₈各自独立地选自氢、取代或未取代的烷基、取代或未取代的烷氧基、取代或未取代的环烷基、取代或未取代的杂环基、取代或未取代的芳香基团、取代或未取代的杂芳香基团；m和n各自独立地选自2～8的整数，p是选自1～8的整数；

当Q₁为碳原子时，R₇和R₈各自独立地选自：H、取代或未取代的烷基、取代或未取代的烷氧基、取代或未取代的环烷基、取代或未取代的杂环基、取代或未取代的芳香基团、取代或未取代的杂芳香基团、硅烷基、酮基、羰基、羧基、酯基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨基、氰基、氨基甲酰基、卤甲酰基、异氰基、异氰酸酯基、硫氰酸酯基、异硫氰酸酯基、羟基、硝基或卤素；R₅和R₆各自独立地选自氢、取代或未取代的烷基、取代或未取代的烷氧基、取代或未取代的环烷基、取代或未取代的杂环基、取代或未取代的芳香基团、取代或未取代的杂芳香基团；m是选自0～8的整数，n是选自2～8的整数，p是选自1～8的整数；

R₉～R₁₂各自独立地选自氢、或取代或未取代的烷基。

5.根据权利要求4所述的整平剂，其特征在于，当Q₁为氮原子时，R₅、R₆、R₇和R₈各自独立地选自：氢原子、C1-C8烷基，或一个或多个羟基取代的C2-C8烷基；m，n各自独立地选自2～4的整数，p是选自1～4的整数；

当Q₁为碳原子时，R₅和R₆各自独立地选自氢原子、C1-C8直链烷基、C1-C8支链烷基，或一个或多个羟基取代的C2-C8烷基；R₇和R₈各自独立地选自氢原子、羟基、C1-C6直链烷基、C1-C6支链烷基，或羟基取代的C1-C3烷基；m是选自0～4的整数，n是选自2～4的整数，p是选自1～4的整数；

R₉～R₁₂各自独立地选自氢、C1-C4直链烷基、或C1-C4支链烷基。