[发明专利]制备低温高磁感取向硅钢的工艺方法有效

专利信息
申请号: 201910563069.8 申请日: 2019-06-26
公开(公告)号: CN110218853B 公开(公告)日: 2020-11-24
发明(设计)人: 高洋;郭小龙;王雄奎;孙亮;骆新根;申明辉;程祥威;丁哲;程迪夫;夏乘峰 申请(专利权)人: 武汉钢铁有限公司
主分类号: C21D8/12 分类号: C21D8/12;C23C8/26;C21D3/04;C21D1/26
代理公司: 武汉开元知识产权代理有限公司 42104 代理人: 王和平
地址: 430083 湖北省*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 制备 低温 高磁感 取向 硅钢 工艺 方法
【权利要求书】:

1.一种制备低温高磁感取向硅钢的工艺方法,它包括连铸成坯、铸坯加热、热轧、常化退火、冷轧、连续渗氮及脱碳退火、表面涂覆、卷取、高温退火、拉伸、平整、涂覆绝缘层及干燥固化退火;

其中,所述连续渗氮及脱碳退火工艺具体包括如下过程:

1)冷轧板升温至500~670℃之间均热并进行渗氮处理,渗氮气氛为NH3+N2+H2的混合气;

2)根据均热渗氮处理时间来控制渗氮-脱碳退火完成后钢带渗氮增量△N,所述钢带渗氮增量△N满足如下式I数学关系式:

其中,△N,钢带渗氮增量,单位,ppm;

t,渗氮处理时间,单位,s;

D,钢带厚度,单位,mm;

3)升温到820~860℃之间均热并进行脱碳退火处理,脱碳退火时间为120~360s,脱碳完成后检测钢带碳含量和渗氮增量△N,控制脱碳后钢带中碳含量低于5ppm,控制钢带渗氮增量△N满足如下式II数学关系式:

(185-155×D)≤△N≤(198-91×D)式II;

4)待完成渗氮及脱碳退火工艺后,钢带轧向截面上晶粒分布特征为,钢带上下表面到各距其1/4厚度区间内的晶粒平均尺寸与距钢带轧向截面中心线上下1/4厚度区间内的晶粒平均尺寸之比n*≤0.76;并且比值n*满足如下式III数学关系式:

其中,n2为轧向截面中心线上下1/4厚度区间内的晶粒数量;

n1为钢带上下表面到各距其1/4厚度区间内的晶粒数量。

2.根据权利要求1所述制备低温高磁感取向硅钢的工艺方法,其特征在于:步骤1)中,所述NH3的体积百分含量A满足如下式IV数学关系式:

A=0.165×10-6×T2-0.962×10-4×T+0.055式IV;

其中,T为渗氮处理温度,单位,℃。

3.根据权利要求1所述制备低温高磁感取向硅钢的工艺方法,其特征在于:步骤1)中,所述N2与H2的体积比为1:3。

4.根据权利要求1所述制备低温高磁感取向硅钢的工艺方法,其特征在于:步骤3)中,脱碳退火气氛为加湿的N2+H2混合气,其中水蒸气分压比p=p水蒸气/p氢气为0.27~0.35。

5.根据权利要求1~4中任意一项所述制备低温高磁感取向硅钢的工艺方法,其特征在于:所述高磁感取向硅钢以质量百分比为计包括如下组分;

C:0.035%~0.060%、Si:2.55~3.55%、Als:0.0100~0.0350%、Mn:0.03~0.2%、S:0.0020~0.0100%、N:0.0040~0.0100%、Cu<0.07%,Cr:0.03~0.2%,其余为Fe和不可避免夹杂物。

6.根据权利要求5所述制备低温高磁感取向硅钢的工艺方法,其特征在于:所述高磁感取向硅钢以质量百分比为计包括如下组分;

C:0.035%~0.060%、Si:3.0~3.3%、Als:0.0100~0.0350%、Mn:0.085~0.095%、S:0.0020~0.0100%、N:0.0062~0.0086%、Cu<0.04%,Cr:0.03~0.16%,其余为Fe和不可避免夹杂物。

7.根据权利要求1~4中任意一项所述制备低温高磁感取向硅钢的工艺方法,其特征在于:所述铸坯加热工艺包括控制加热温度1100~1250℃。

8.根据权利要求1~4中任意一项所述制备低温高磁感取向硅钢的工艺方法,其特征在于:所述热轧工艺包括常规热轧成厚度为1.5~3.8mm规格的热轧卷。

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