[发明专利]一种超细纳米光触媒制剂及其制备工艺

权利要求书

1.一种超细纳米光触媒制剂，其特征在于，由如下质量百分比的原料加工而成：20-30％钛酸正丁酯，，0.05-0.1％六水硝酸铈，0.05-0.1％三氯化铑，0.05-0.1％硝酸银，0.05-0.1％硝酸锌，余量为无水乙醇，原料的总和为100％。

2.根据权利要求1所述的超细纳米光触媒制剂，其特征在于，由如下质量百分比的原料加工而成：25％钛酸正丁酯，0.075％六水硝酸铈，0.075％三氯化铑，0.075％硝酸银，0.075％硝酸锌，余量为无水乙醇。

3.根据权利要求1所述的超细纳米光触媒制剂，其特征在于，所述钛酸正丁酯、六水硝酸铈、三氯化铑、硝酸银和硝酸锌的纯度纯为99.99％以上。

4.根据权利要求1所述的超细纳米光触媒制剂，其特征在于，所述光催化剂其粒径≤10nm，比表面积大于等于400m²/g，光激发范围包括紫外光区和可见光区。

5.一种权利要求1-4任意一项所述超细纳米光触媒制剂的制备工艺，其特征在于，包括以下步骤：

步骤S1，将配方量的钛酸正丁酯和无水乙醇混合，形成A液；

步骤S2，配置0.05-0.08M氨水，加热至50-75℃，形成B液；

步骤S3，将步骤S1的A液加热至60-70℃，缓慢加入至B液中，恒温维持10-20min，然后离心分离，获得胶状物C；

步骤S4，备置配方量的六水硝酸铈、三氯化铑、硝酸银和硝酸锌，加入步骤S3获得的胶装物C中，脱水处理；

步骤S5，脱水处理后离心分离，于600-800℃烘干处理3-4h。

6.根据权利要求5所述的超细纳米光触媒制剂的制备工艺，其特征在于，步骤S3中分离采用离心分离，离心机的转速为3000-5000rpm。

7.根据权利要求5所述的超细纳米光触媒制剂的制备工艺，其特征在于，步骤S4中，脱水处理的设备为负压釜，脱水处理的压力为-1000至-2000pa，脱水处理的温度为80-100℃。

8.根据权利要求5所述的超细纳米光触媒制剂的制备工艺，其特征在于，步骤S6中研磨采用纳米粉碎机进行粉碎研磨，获得的光催化剂98％的粒径为6-10nm。