[发明专利]一种对光场振幅与相位均可调的超表面结构

权利要求书

1.一种对光场振幅与相位均可调的超表面结构，其特征在于，包括衬底层(1)、振幅调节层(2)以及相位调节层(3)；所述衬底层(1)的下端面和上端面分别设有振幅调节层(2)和相位调节层(3)；所述振幅调节层(2)由若干规格相同但摆放角度各异的椭圆或矩形纳米柱(21)排列组成；所述相位调节层(3)由若干规格不同的椭圆或矩形纳米柱(31)排列组成；所述振幅调节层(2)的纳米柱(21)的摆放角度根据期望的光场的振幅确定，所述相位调节层(3)的纳米柱(31)的尺寸根据期望的光场的相位确定。

2.根据权利要求1所述的对光场振幅与相位均可调的超表面结构，其特征在于，振幅调节层(2)以及相位调节层(3)均采用高折射率、低损耗材料。

3.一种利用上述任一权利要求所述的对光场振幅与相位均可调的超表面结构的方法，其特征在于，具体为：

确定在工作波长为λ的线偏振光照射下的振幅分布和相位响应分布要求；

根据振幅分布要求，确定所述振幅调节层的各个纳米柱的摆放角度以获得需要的振幅分布；

根据相位响应分布要求，通过改变相位调节层中对应位置的纳米柱的尺寸获得需要的相位响应分布。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，对于相位调节层，通过扫描相位调节层的纳米柱的结构建立相位响应数据库，再从相位响应数据库中根据所需相位响应分布选择各个纳米柱的尺寸。