[发明专利]PDMS基双层结构磁响应微透镜阵列制造方法有效
申请号: | 201910569068.4 | 申请日: | 2019-06-27 |
公开(公告)号: | CN110261939B | 公开(公告)日: | 2020-12-01 |
发明(设计)人: | 张遒姝;彭倍;王松;楚孟奇 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学 |
主分类号: | G02B3/00 | 分类号: | G02B3/00;G02F1/29 |
代理公司: | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 王闯 |
地址: | 610000 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | pdms 双层 结构 响应 透镜 阵列 制造 方法 | ||
1.一种PDMS基双层结构磁响应微透镜阵列制造方法,其特征在于,包括步骤:
混合第一PDMS预聚物和第一固化剂,获得PDMS混合物;
将所述PDMS混合物旋涂于SU-8凹模(1),获得PDMS微透镜阵列(2);
混合第二PDMS预聚物、Fe3O4颗粒和第二固化剂,获得PDMS-Fe3O4纳米颗粒混合物;
将所述PDMS-Fe3O4纳米颗粒混合物旋涂于所述PDMS微透镜阵列(2),获得未固化的PDMS-Fe3O4复合涂膜(3);
将未分离的所述SU-8凹模(1)、所述PDMS微透镜阵列(2)和所述PDMS-Fe3O4复合涂膜(3)置于均匀强磁场中;
固化所述PDMS-Fe3O4复合涂膜(3),获得PDMS基双层结构磁响应微透镜阵列(4),其中,所述PDMS基双层结构磁响应微透镜阵列(4)包括PDMS基磁流变弹性体薄膜。
2.根据权利要求1所述的PDMS基双层结构磁响应微透镜阵列制造方法,其特征在于,所述获得PDMS混合物之后,包括:
将所述PDMS混合物在真空罩中抽真空。
3.根据权利要求2所述的PDMS基双层结构磁响应微透镜阵列制造方法,其特征在于,所述将所述PDMS混合物旋涂于SU-8凹模(1),获得PDMS微透镜阵列(2),包括:
将所述PDMS混合物滴于SU-8凹模(1)的中心部位,所述PDMS混合物流动覆盖所述SU-8凹模(1)的阵列区域;
固化所述PDMS混合物,获得所述PDMS微透镜阵列(2)。
4.根据权利要求1所述的PDMS基双层结构磁响应微透镜阵列制造方法,其特征在于,所述混合第二PDMS预聚物、Fe3O4颗粒和第二固化剂,获得PDMS-Fe3O4纳米颗粒混合物,包括:
混合所述第二PDMS预聚物和所述Fe3O4颗粒,获得中间混合物;
混合所述中间混合物与所述第二固化剂,获得所述PDMS-Fe3O4纳米颗粒混合物。
5.根据权利要求4所述的PDMS基双层结构磁响应微透镜阵列制造方法,其特征在于,所述Fe3O4颗粒的粒径为20nm,所述Fe3O4颗粒的重量百分数为1wt%。
6.根据权利要求1所述的PDMS基双层结构磁响应微透镜阵列制造方法,其特征在于,所述均匀强磁场的磁场方向平行或垂直于所述PDMS-Fe3O4复合涂膜(3)。
7.根据权利要求1所述的PDMS基双层结构磁响应微透镜阵列制造方法,其特征在于,所述获得PDMS基双层结构磁响应微透镜阵列(4)之后,包括:
将所述PDMS基双层结构磁响应微透镜阵列(4)从所述SU-8凹模(1)上剥离。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于电子科技大学,未经电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910569068.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:抗眩结构及其制造方法
- 下一篇:一种蝇眼透镜的制备方法