[发明专利]PDMS基双层结构磁响应微透镜阵列制造方法有效

专利信息
申请号: 201910569068.4 申请日: 2019-06-27
公开(公告)号: CN110261939B 公开(公告)日: 2020-12-01
发明(设计)人: 张遒姝;彭倍;王松;楚孟奇 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: G02B3/00 分类号: G02B3/00;G02F1/29
代理公司: 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 代理人: 王闯
地址: 610000 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: pdms 双层 结构 响应 透镜 阵列 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种PDMS基双层结构磁响应微透镜阵列制造方法,其特征在于,包括步骤:

混合第一PDMS预聚物和第一固化剂,获得PDMS混合物;

将所述PDMS混合物旋涂于SU-8凹模(1),获得PDMS微透镜阵列(2);

混合第二PDMS预聚物、Fe3O4颗粒和第二固化剂,获得PDMS-Fe3O4纳米颗粒混合物;

将所述PDMS-Fe3O4纳米颗粒混合物旋涂于所述PDMS微透镜阵列(2),获得未固化的PDMS-Fe3O4复合涂膜(3);

将未分离的所述SU-8凹模(1)、所述PDMS微透镜阵列(2)和所述PDMS-Fe3O4复合涂膜(3)置于均匀强磁场中;

固化所述PDMS-Fe3O4复合涂膜(3),获得PDMS基双层结构磁响应微透镜阵列(4),其中,所述PDMS基双层结构磁响应微透镜阵列(4)包括PDMS基磁流变弹性体薄膜。

2.根据权利要求1所述的PDMS基双层结构磁响应微透镜阵列制造方法,其特征在于,所述获得PDMS混合物之后,包括:

将所述PDMS混合物在真空罩中抽真空。

3.根据权利要求2所述的PDMS基双层结构磁响应微透镜阵列制造方法,其特征在于,所述将所述PDMS混合物旋涂于SU-8凹模(1),获得PDMS微透镜阵列(2),包括:

将所述PDMS混合物滴于SU-8凹模(1)的中心部位,所述PDMS混合物流动覆盖所述SU-8凹模(1)的阵列区域;

固化所述PDMS混合物,获得所述PDMS微透镜阵列(2)。

4.根据权利要求1所述的PDMS基双层结构磁响应微透镜阵列制造方法,其特征在于,所述混合第二PDMS预聚物、Fe3O4颗粒和第二固化剂,获得PDMS-Fe3O4纳米颗粒混合物,包括:

混合所述第二PDMS预聚物和所述Fe3O4颗粒,获得中间混合物;

混合所述中间混合物与所述第二固化剂,获得所述PDMS-Fe3O4纳米颗粒混合物。

5.根据权利要求4所述的PDMS基双层结构磁响应微透镜阵列制造方法,其特征在于,所述Fe3O4颗粒的粒径为20nm,所述Fe3O4颗粒的重量百分数为1wt%。

6.根据权利要求1所述的PDMS基双层结构磁响应微透镜阵列制造方法,其特征在于,所述均匀强磁场的磁场方向平行或垂直于所述PDMS-Fe3O4复合涂膜(3)。

7.根据权利要求1所述的PDMS基双层结构磁响应微透镜阵列制造方法,其特征在于,所述获得PDMS基双层结构磁响应微透镜阵列(4)之后,包括:

将所述PDMS基双层结构磁响应微透镜阵列(4)从所述SU-8凹模(1)上剥离。

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