[发明专利]带浮动装置的吸附式电磁足

说明书

本发明涉及一种带浮动装置的吸附式电磁足，涉及机器人技术领域，用于解决现有技术中存在的在不平整表面上机器人足部与吸附表面的吸附间隙大而不能可靠稳定吸附的技术问题。本发明的带浮动装置的吸附式电磁足，包括电磁足本体以及设置在所述电磁足本体底部的电磁铁组合构件，通过设置浮动机构，使电磁铁在较小范围能够自动调节其在吸附目标表面的吸附姿态，从而补偿吸附间隙，即可有效保证吸附式电磁足稳定、可靠的吸附。

技术领域

本发明涉及机器人技术领域，特别地涉及一种带浮动装置的吸附式电磁足。

背景技术

针对具有磁吸附特征的平面和非完全平面结构，如衔架钢结构厂房，大型电塔、近似平面的大弧度表面(船体)等，现有行走、攀爬机器人的足部机构通常采用磁性履带式、挠性爪式、双足或多足式结构。履带式避障能力差，使用局限性高；挠性爪式结构复杂，磨损失效快；其中，由于双足或多足式结构具有行走灵活，适应能力强等优点，因此得到了大量的应用。但是针对不平整吸附表面，目前的双足或多足式结构与吸附表面之间的刚性接触将很容易损坏吸附部件，或者因为表面不平整，造成吸附机构与吸附目标表面存在较大间隙不能形成有效吸附，不能较好满足可靠稳定吸附。

发明内容

本发明提供一种带浮动装置的吸附式电磁足，用于解决现有技术中存在的在不平整表面上机器人足部与吸附表面的吸附间隙大而不能可靠稳定吸附的技术问题。

本发明的带浮动装置的吸附式电磁足，包括电磁足本体以及设置在所述电磁足本体底部的电磁铁组合构件，所述电磁铁组合构件用于与吸附目标表面吸附或脱离；

其中，所述电磁铁组合构件包括电磁铁和与所述电磁铁相连的浮动机构，所述浮动机构用于使所述电磁铁自动调节其空间位置。

在一个实施方式中，所述浮动机构包括与所述电磁铁相连的浮动接头以及与所述电磁足本体相连的固定接头，所述浮动接头和所述固定接头以球形铰接的方式相连。

在一个实施方式中，所述浮动接头的第一端构造为球形结构，所述浮动接头的第二端与所述电磁铁相连；

所述固定接头的第一端设置有用于容纳所述浮动结构的第一端的球形凹槽，所述固定接头的第二端与所述电磁足本体固定连接。

在一个实施方式中，所述浮动接头的第二端与所述电磁铁之间设置有缓冲垫。

在一个实施方式中，所述电磁铁包括设置在电磁铁本体和设置在所述电磁铁本体上的电磁铁接线端子，所述浮动接头的第二端伸入所述电磁铁本体的内部。

在一个实施方式中，所述电磁铁组合构件的数量为偶数个。

在一个实施方式中，所述电磁足本体的周向方向上设置有激光传感器，所述激光传感器用于采集所述电磁铁组合构件与吸附目标表面的距离数据。

在一个实施方式中，所述电磁足本体的底部还设置有动力装置，所述动力装置设置在四个所述电磁铁组合构件之间。

在一个实施方式中，所述动力装置为电机组件，所示电机组件包括与所述电磁足本体相连的电机罩以及设置在所述电机罩内部的电机，所述电机与所述电磁足本体上方的减速器相连。

与现有技术相比，本发明的优点在于：通过设置浮动机构，使电磁铁在较小范围能够自动调节其在吸附目标表面的吸附姿态，从而补偿吸附间隙，使电磁铁与吸附目标表面按照要求进行贴合，从而可有效保证吸附式电磁足稳定、可靠的吸附。

附图说明

在下文中将基于实施例并参考附图来对本发明进行更详细的描述。

图1是本发明的实施例中带浮动装置的吸附式电磁足的立体结构示意图；

图2是本发明的实施例中带浮动装置的吸附式电磁足的正视图；