[发明专利]光疗控制装置有效
申请号: | 201910571626.0 | 申请日: | 2019-06-28 |
公开(公告)号: | CN110876836B | 公开(公告)日: | 2021-11-09 |
发明(设计)人: | 白瑞芬;郭振彬 | 申请(专利权)人: | 冠晶光电股份有限公司 |
主分类号: | A61N5/06 | 分类号: | A61N5/06 |
代理公司: | 北京伟思知识产权代理事务所(普通合伙) 11725 | 代理人: | 聂宁乐;张莉 |
地址: | 中国台湾台中市大*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光疗 控制 装置 | ||
1.一种光疗控制装置,包含:
一控制电路,能够提供设定人体表皮下之组织的一受光部位所需的一光剂量范围,所述受光部位至表皮之间有一特定距离,且所述控制电路依据所述特定距离、所述光剂量范围、一受光时间、及光源与所述受光部位之表皮之间的光束之形状变化的比例,依据下列算式计算所述光源所需输出的一理想光强度范围,并建立所述理想光强度范围与对应所述受光部位之表皮的一理想表皮光照度范围的一对应关系:
其中,P为所述理想光强度范围的一理想光强度,其单位为mW/cm2;Dt为所述光剂量范围的一光剂量,其单位为J/cm2;ε为表皮下所述特定距离的光损失率;t为所述受光时间;r1为所述光源之一出光面所发出的光束之半径;r2为所述受光部位之表皮上光束之半径;
一光源,结合于所述控制电路,所述控制电路能够控制调节所述光源的光强度,其中通过一光检知器测量对应所述受光部位之表皮的一表皮光照度,并依据所述光检知器所测得的所述表皮光照度及所述对应关系取得所测得的所述表皮光照度所对应的所述光源的一输出光强度,所述控制电路进行所述输出光强度与所述理想光强度范围比对,再依据比对结果控制所述光源,使所述光源所输出之光强度与所述理想光强度范围相符。
2.一种光疗控制装置,包含:
一控制电路,能够提供设定人体表皮下之组织的一受光部位所需的一光剂量范围,所述受光部位至表皮之间有一特定距离,且所述控制电路依据所述特定距离、所述光剂量范围、一受光时间、及光源与所述受光部位之表皮之间的光束之形状变化的比例,依据下列算式计算所述光源所需输出的一理想光强度范围,并建立所述理想光强度范围与对应所述受光部位之表皮的一理想表皮光照度范围的一对应关系:
其中,P为所述理想光强度范围的一理想光强度,其单位为mW/cm2;Dt为所述光剂量范围的一光剂量,其单位为J/cm2;ε为表皮下所述特定距离的光损失率;t为所述受光时间;A1为所述光源之一出光面所发出之光束的面积;A2为所述受光部位之表皮上光束的面积;
一光源,结合于所述控制电路,所述控制电路能够控制调节所述光源的光强度,其中通过一光检知器测量对应所述受光部位之表皮的一表皮光照度,并依据所述光检知器所测得的所述表皮光照度及所述对应关系取得所测得的所述表皮光照度所对应的所述光源的一输出光强度,所述控制电路进行所述输出光强度与所述理想光强度范围比对,再依据比对结果控制所述光源,使所述光源所输出之光强度与所述理想光强度范围相符。
3.如权利要求1或2所述的光疗控制装置,其中,所述控制电路系建立彼此不同的多个预定表皮光照度及对应所述多个预定表皮光照度的多个预定输出光强度之关系,以形成所述对应关系,将所述对应关系储存于一测试设备之内存中,其中,所述理想表皮光照度范围包括所述多个预定表皮光照度,所述理想光强度范围包括所述多个预定输出光强度;所述表皮光照度是对应所述多个预定表皮光照度的一个,所述输出光强度是对应所述多个预定输出光强度的一个。
4.如权利要求3所述的光疗控制装置,其中,所述控制电路系在所述光源于所述理想光强度范围时,通过所述光检知器测量各所述预定表皮光照度以确保达到各所述预定输出光强度。
5.如权利要求3所述的光疗控制装置,其中,所述表皮光照度是以所述光源至表皮于一固定距离时,测量表皮的光照度而得;通过所述光检知器测量所述受光部位之表皮的另一表皮光照度,所述光检知器将检测到的所述另一表皮光照度回馈给所述控制电路,所述控制电路则依据预先建立的另一对应关系,在所测得的所述另一表皮光照度与所述理想表皮光照度范围中对应所述固定距离的一所述预定表皮光照度不同时,控制所述光源的光强度,使所述光检知器所测得的所述另一表皮光照度与对应所述固定距离的一所述预定表皮光照度相同。
6.如权利要求1或2所述的光疗控制装置,其中,所述光剂量范围为1~4J/cm2。
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