[发明专利]奇偶阵列式3D膜的制备装置及方法

权利要求书

1.奇偶阵列式3D膜的制备装置，其特征在于，包括1/2相位差补偿膜送材卷辊(101)、奇偶阵列辊(102)、真空覆膜辊(103)、偏光膜输送卷辊(104)、AG膜输送卷辊(105)、收材卷辊(106)、点胶装置(107)、固化装置(108)和两组压合滚轮装置；

奇偶阵列辊(102)和真空覆膜辊(103)卷对卷设置，真空覆膜辊(103)真空吸附1/2相位差补偿膜送材卷辊(101)输送的1/2相位差补偿膜，奇偶阵列辊(102)将1/2相位差补偿膜切出奇偶阵列式镂空膜；

偏光膜输送卷辊(104)输送的偏光膜通过一组压合滚轮装置与所述奇偶阵列式镂空膜压合形成3D膜；

点胶装置(107)为3D膜的镂空侧点胶；

AG膜输送卷辊(105)输送的AG保护膜通过另一组压合滚轮装置粘覆在3D膜的镂空侧；

固化装置(108)对点胶、贴AG保护膜的3D膜进行固化并由收材卷辊(106)收卷；

奇偶阵列辊(102)外圆表面交错设置的n个凸台切除单元(1021)和n个凹陷单元(1022)构成奇偶阵列，所述凸台切除单元(1021)包括口字形切刀(201)、间隔棉(202)和曲面基底(203)，所述曲面基底(203)为与凹陷单元(1022)等大的凸台，在所述曲面基底(203)上设置口字形切刀(201)，口字形切刀(201)由四条刀片围合而成，在围合区域内填充间隔棉(202)，其中沿轴向的两条刀片为直刀片，沿周向的两条刀片为弧形刀片，口字形切刀(201)的四条刀片比曲面基底(203)的边界回缩0.05mm～0.1mm，曲面基底(203)的高度为20μm～50μm。

2.根据权利要求1所述奇偶阵列式3D膜的制备装置，其特征在于，真空覆膜辊(103)为平滑辊，平滑辊的外表面设置有缓冲膜(1031)。

3.根据权利要求2所述奇偶阵列式3D膜的制备装置，其特征在于，缓冲膜(1031)为20μm～35μm的多孔软质材料层。

4.根据权利要求2所述奇偶阵列式3D膜的制备装置，其特征在于，真空覆膜辊(103)的平滑辊的外圆表面均布有多个吸附孔，多个吸附孔与辊轴中心孔连通，辊轴中心孔连接真空气源装置(114)，真空气源装置(114)为真空覆膜辊(103)提供输送1/2相位差补偿膜过程中所需吸附力。

5.根据权利要求4所述奇偶阵列式3D膜的制备装置，其特征在于，还包括废料回收装置(113)，废料回收装置(113)对奇偶阵列辊(102)和真空覆膜辊(103)卷对卷压合后切下的废料进行回收。

6.根据权利要求5所述奇偶阵列式3D膜的制备装置，其特征在于，还包括离子风刀装置(115)，离子风刀装置(115)设置在废料回收装置(113)的后续工艺路径上，离子风刀装置(115)对奇偶阵列式镂空膜进行除静电处理。

7.根据权利要求1所述奇偶阵列式3D膜的制备装置，其特征在于，压合滚轮装置为一对上下设置的卷对卷压合辊。