[发明专利]产生布局图的方法

说明书

产生布局图的方法包含：在布局图中，识别违反水平约束向量的三或多个单元的群组，且群组呈对齐于垂直方向而形成垂直边缘对(vertically‑aligned edge‑pairs,VEP)；每一个VEP包含二个表示为至少具部分群组的对应单元的垂直边缘部分的成员；相对于水平方向，每一个VEP的成员设于毗邻边缘并分离对应实际间距；及水平约束向量包含间隔临界值，每一间隔临界值包含对应VEP并表示为在水平方向上，对应VEP的成员之间对应的最小间距；及对于每一个具有至少一个但少于总数之间隔临界值者，选择性移动单元中的给定单元，其对应于对应VEP的成员中一者，以避免违反水平约束向量。

技术领域

本案是有关于一种用于集成电路的布局图，包含其产生方法。

背景技术

集成电路包含一个或多个半导体装置。一种用来表示为半导体装置的方式为平面图，特别是指半导体装置的布局图。布局图是用以产生设计准则的背景。设计准则的套组于布局图中，强制施行对应图案位移的约束，例如地区上或空间上的限制、连接限制等等。通常，设计准则的套组包含其次套组，且次套组关联于空间或其他相邻单元及毗邻单元之间图案的交互作用，其中图案能表示为金属层中的导体。

一般而言，设计准则的套组是为了特定的某种制程，并根据布局图借以制造半导体装置。设计准则套组是为了对应制程上变动性而作的补偿。通过布局图而产生的实际半导体装置，及根据布局图而产生的虚拟装置，前述的补偿能提升实际半导体装置相对于虚拟装置为可接受装置的可能性。

发明内容

本案的一些实施例是关于一种产生布局图的方法，一布局图储存于一非暂态计算机可读取媒体。该方法特征在于，包含：在该布局图中，识别违反一水平约束向量的三个或多个单元的一群组，该群组设置呈现为大致上对齐于一垂直方向的二个或多个边缘对，而形成复数垂直边缘对；每一该等垂直边缘对包含二个表示为至少具部分该群组的对应单元的垂直边缘部分的成员；相对于一水平方向，每一该等垂直边缘对的该等成员设置于毗邻边缘并分离一对应实际间距；以及该水平约束向量包含至少一间隔临界值，每一该等间隔临界值包含一对应垂直边缘对并表示为在该水平方向上，该对应垂直边缘对的该等成员之间的一对应的最小间距；以及对于每一个具有至少一个但少于总数之间隔临界值者，选择性地移动该等单元中的一给定单元，该给定单元对应于该等对应垂直边缘对的该等成员的其中一者，借以避免违反该水平约束向量。

附图说明

为让本案所揭示的内容与以下实施例能更明显易懂，所附附图的说明如下。应注意的是，依照产业中的标准方法，各种特征并不会依其尺规呈现于图示中。实际上，为了厘清讨论内容，各种特征的维度可能任意增加或减少。

图1为根据本案一些实施例所绘示半导体装置的方块图；

图2A–2J为根据本案一些实施例所绘示对应布局图；

图3A–3E为根据本案一些实施例所绘示对应的水平约束向量(HCV)示意图；

图4A–4F为根据本案一些实施例所绘示对应的垂直约束向量(VCV)示意图；

图5A–5H为根据本案一些实施例所绘示对应的群组单元描述符(GCD)示意图；

图6A为根据本案一些实施例所绘示HCV、VEP及条件表格；

图6B为根据本案一些实施例所绘示覆盖网格示意图；

图6C为根据本案一些实施例所绘示利用覆盖网格的数学示意图；

图7A–7B为根据本案一些实施例所绘示一组中单元的操作及其数学示意图；

图8A为根据本案一些实施例所绘示代表为一对单元的不同取向范围的符号示意图；

图8B为根据本案一些实施例所绘示杂凑函数示意图；