[发明专利]一种曝光装置、光刻设备及曝光方法

权利要求书

1.一种曝光装置，其特征在于，包括：

曝光单元，用于对物料进行曝光；

至少一个物料承载运动单元，所述物料承载运动单元用于承载物料；

与所述至少一个物料承载运动单元一一对应的至少一个物料传送单元，所述物料传送单元用于对所述物料承载运动单元进行上下物料操作；其中，所述物料承载运动单元可在物料传送单元的等待工位和曝光单元的曝光工位之间移动；

第一定位检测单元，设置于所述等待工位，用于在所述物料承载运动单元位于所述等待工位时，检测物料的位姿；

第二定位检测单元，设置于所述曝光工位，用于在所述物料承载运动单元位于所述曝光工位时，检测或校验物料的位姿；

位姿调整单元，用于根据所述第一定位检测单元或所述第二定位检测单元的检测结果，调整物料的位置和姿态；

所述曝光装置具体用于：获取第一工序时间和第二工序时间，其中第一工序时间为所述物料传送单元将物料传送至所述物料承载运动单元的时间、所述第一定位检测单元的检测时间及所述位姿调整单元的调整时间之和，第二工序时间为所述第二定位检测单元的检测时间、所述位姿调整单元的调整时间以及所述曝光单元的曝光时间之和；

基于所述第一工序时间和第二工序时间设定所述第一定位检测单元和所述第二定位检测单元的工作状态；

所述第二定位检测单元包括第二对准检测机构和第二调平检测机构；

所述第二对准检测机构用于检测或校验所述物料的位置；

所述第二调平检测机构用于检测或校验所述物料的姿态。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，包括两个所述物料承载运动单元和两个物料传送单元，分别为第一物料承载运动单元和第二物料承载运动单元，以及第一物料传送单元和第二物料传送单元；

所述第一物料承载运动单元可在第一物料传送单元的第一等待工位和曝光工位之间移动；

所述第二物料承载运动单元可在第二物料传送单元的第二等待工位和曝光工位之间移动。

3.根据权利要求1或2所述的曝光装置，其特征在于，所述物料承载运动单元包括运动台和承载台，所述承载台设置于所述运动台上；

所述运动台用于带动所述承载台在所述等待工位和所述曝光工位之间移动；

所述承载台用于承载物料。

4.根据权利要求3所述的曝光装置，其特征在于，所述承载台与所述运动台通过所述位姿调整单元连接，所述位姿调整单元用于驱动所述承载台以调整物料的位置和姿态。

5.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述第一定位检测单元包括第一对准检测机构和第一调平检测机构；

所述第一对准检测机构用于检测所述物料上的对准标记，以确定所述物料的当前位置；

所述第一调平检测机构用于获取所述物料的平面信息，以确定所述物料的当前姿态。

6.根据权利要求5所述的曝光装置，其特征在于，

所述第一对准检测机构包括第一摄像头；

所述第一调平检测机构包括多个第一激光传感器。

7.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述第二对准检测机构包括第二摄像头；

所述第二调平检测机构包括多个第二激光传感器。

8.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，还包括导向机构，所述物料承载运动单元可沿所述导向机构在所述等待工位和所述曝光工位之间移动。

9.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，还包括物料存储单元，所述物料传送单元用于在所述物料存储单元和所述物料承载运动单元之间的进行物料传送。

10.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，还包括物料传送预对准单元，用于在物料传送单元将物料传送至所述物料承载运动单元的过程中，对所述物料的位姿进行预对准。