[发明专利]光刻设备及光刻设备的瞳面透过率的检测方法

权利要求书

1.一种光刻设备，其特征在于，包括：

照明系统，用于提供光束；

相位掩模版，用于将由所述照明系统发出的光束拆分为第一级子光束和第二级子光束，并根据所述相位掩模版获取由所述相位掩模版投射出的第一级子光束和第二级子光束的入射能量，或者获取由所述相位掩模版投射出的第二级子光束和第一级子光束的入射能量比值；

物镜系统，用于将从所述相位掩模版投射出的所述第一级子光束和所述第二级子光束投射至光刻设备的运动台上；以及，

检测装置，安装在所述运动台上，用于检测投射至所述运动台上的第一级子光束和第二级子光束的出射能量，以根据所述出射能量和所述入射能量得到所述物镜系统的瞳面透过率；或者，获取第二级子光束和第一级子光束的出射能量比值，并根据所述出射能量比值和所述入射能量比值得到瞳面透过率；

其中，根据所述出射能量和所述入射能量得到所述物镜系统的瞳面透过率包括：比对第一级子光束的入射能量和出射能量以得到对应于第一级子光束的瞳面透过率，以及比对第二级子光束的入射能量和出射能量以得到对应于第二级子光束的瞳面透过率。

2.如权利要求1所述的光刻设备，其特征在于，结合如下公式获取所述物镜系统的瞳面透过率：

T＝(E1’/E0’)/(E1/E0)；

其中，T为瞳面透过率；

E0为第一级子光束的入射能量；

E1为第二级子光束的入射能量；

E0’为第一级子光束的出射能量；

E1’为第二级子光束的出射能量。

3.如权利要求1所述的光刻设备，其特征在于，所述相位掩模版上具有至少两种掩模图形，所述至少两种掩模图形依次偏转不同的角度，以使所述光束分别经过所述至少两种掩模图形时，投射出的第一级子光束和第二级光束相应的依次偏转不同的角度照射至所述瞳面上。

4.如权利要求1所述的光刻设备，其特征在于，所述相位掩模版上具有至少两种掩模图形，所述至少两种掩模图形的光栅周期互不相同，以使所述光束分别经过所述至少两种掩模图形时，投射出的第一级子光束和第二级子光束的间距互不相同。

5.如权利要求1所述的光刻设备，其特征在于，照射至所述相位掩模版上的入射光的入射角度可调整，以使所述入射光以不同的入射角度照射至所述相位掩模版。

6.如权利要求1所述的光刻设备，其特征在于，所述检测装置设置在所述运动台中，并且所述检测装置的检测面低于所述运动台的台面。

7.如权利要求1所述的光刻设备，其特征在于，所述检测装置为可移动安装在所述运动台中，用于依次检测照射至所述运动台上的第一级子光束和第二级子光束。

8.如权利要求1所述的光刻设备，其特征在于，所述检测装置包括：

支撑框架，所述支撑框架具有容纳腔体；

汇聚透镜，设置在所述支撑框架对应光入射面的腔体壁上；以及，

探测器，设置在所述支撑框架的所述容纳腔体内。

9.如权利要求8所述的光刻设备，其特征在于，在所述汇聚透镜的光入射面上涂覆有遮挡层，并由所述遮挡层在所述汇聚透镜的光入射面上围绕出一透光区。