[发明专利]一种吸附装置、方法、交接手、掩模传输系统及光刻设备

权利要求书

1.一种吸附装置，其特征在于，包括：

吸附单元，用于从工件台上吸附工件；

自适应调节单元，连接所述吸附单元，所述自适应调节单元用于带动所述吸附单元沿Z向运动，以及自适应调节所述吸附单元的倾斜角度；

压力检测单元，用于检测所述吸附装置对所述工件的压力；

控制单元，连接所述吸附单元、所述自适应调节单元和所述压力检测单元，所述控制单元用于根据所述压力检测单元检测到的压力信息，控制所述自适应调节单元的Z向运动；

所述自适应调节单元包括Z向升降组件和调平组件，所述Z向升降组件与所述控制单元电连接，所述吸附单元设置于所述调平组件上；

所述Z向升降组件上设置有多个第一调平结构，所述调平组件上对应设置有与所述第一调平结构匹配的第二调平结构，所述调平组件通过所述第二调平结构搭接于所述Z向升降组件的所述第一调平结构上；

所述调平组件通过自身重力完成对倾斜的掩膜版的自适应。

2.根据权利要求1所述的吸附装置，其特征在于，所述吸附单元包括至少一个吸盘，所述吸盘设置于所述调平组件的底部，所述压力检测单元包括至少一个压力传感器，所述压力传感器设置于对应的所述吸盘与所述调平组件的连接处。

3.根据权利要求1所述的吸附装置，其特征在于，所述Z向升降组件包括Z向升降机构和底盘，所述底盘固定于所述Z向升降机构的下端，所述第一调平结构设置于所述底盘上；所述第二调平结构设置于所述调平组件的顶部。

4.根据权利要求3所述的吸附装置，其特征在于，所述第一调平结构为调平槽，且所述调平槽的开口朝上，所述第二调平结构为调平螺杆，所述调平螺杆的下端具有调平球头，所述调平螺杆的上端固定于所述调平组件上；或者，

所述第二调平结构为调平槽，且所述调平槽的开口朝下，所述第一调平结构为调平螺杆，所述调平螺杆的上端具有调平球头，所述调平螺杆的下端固定于所述底盘上。

5.根据权利要求4所述的吸附装置，其特征在于，所述调平槽为V型槽或U型槽。

6.根据权利要求5所述的吸附装置，其特征在于，所述第一调平结构和所述第二调平结构均为3个，且均呈三角形排布。

7.根据权利要求2所述的吸附装置，其特征在于，所述吸盘上设置有至少两个气管接头，所述气管接头与所述吸盘中对应的气室连通。

8.根据权利要求7所述的吸附装置，其特征在于，所述吸附单元还包括真空源，所述真空源包括工作真空源、真空气囊和备用真空泵，所述真空源通过至少两条气路分别与所述至少两个气管接头连接。

9.根据权利要求8所述的吸附装置，其特征在于，还包括真空检测单元，所述真空检测单元包括真空传感器，所述真空传感器设置于所述吸盘上，所述真空传感器与所述控制单元电连接。

10.一种交接手，其特征在于，包括如权利要求1-9任一项所述的吸附装置。

11.一种掩模传输系统，其特征在于，包括如权利要求10所述的交接手。

12.一种光刻设备，其特征在于，包括如权利要求11所述的掩模传输系统。