[发明专利]光促进的Minisci C-H烷基化反应在制备烷基取代的氮杂环中的应用

权利要求书

1.光促进的无需氧化剂的醛或酮作为烷基自由基来源的Minisci C-H烷基化反应制备烷基取代的氮杂环的方法，其特征是将1当量的氮杂芳环A与0.001-0.1当量的光催化剂[Ir(dF(CF₃)ppy)₂(dtbbpy)]PF₆、1-3当量的三(三甲基硅基)硅烷、1-6当量的三氟乙酸(TFA)、10-50当量的羰基化合物B和溶剂混合，向反应瓶中吹氩气，在36W的490nm蓝光照射下反应，加入碳酸氢钠溶液，再加入二氯甲烷溶液，分液，有机层干燥，旋去溶剂，柱层析得到纯品，

其中氮杂芳环A包括取代的或未取代的4-羟基喹唑啉，取代的或未取代的苯并噻唑，取代的或未取代的喹啉，取代的或未取代的吡啶，所述取代的取代基各自独立地选自卤素、甲基、异丙基、环戊基、环己基、甲氧基、苯基中的一种或多种，羰基化合物B包括C4-C6的链状烷基酮、C4-C6的环烷基酮、C2-C8的链状烷基醛、N-叔丁基羰基-4-哌啶酮、四氢吡喃酮、二氢-3(2H)-呋喃酮、1，4-环己二酮单乙二醇缩酮、对环己酮甲酸乙酯、3-环己烯甲醛、环己烷基甲醛、3-甲硫基丙醛、4-苯基丁醛、苯丙醛、甲醛。

2.光促进的无需氧化剂的丙酮作为异丙基自由基来源的Minisci C-H烷基化反应制备异丙基取代的氮杂环的方法，其特征是将0.3mmol的氮杂芳环A与0.003mmol的光催化剂[Ir(dF(CF₃)ppy)₂(dtbbpy)]PF₆、0.6mmol的三(三甲基硅基)硅烷、0.6mmol的三氟乙酸(TFA)和3mL丙酮混合，向反应瓶中吹氩气，在36W的490nm蓝光照射下反应，加入碳酸氢钠溶液，再加入二氯甲烷溶液，分液，有机层干燥，旋去溶剂，柱层析得到纯品，

其中氮杂芳环A包括取代的或未取代的4-羟基喹唑啉，取代的或未取代的苯并噻唑，取代的或未取代的喹啉，取代的或未取代的吡啶，所述取代的取代基各自独立地选自卤素、甲基、异丙基、环戊基、环己基、甲氧基、苯基中的一种或多种。

3.光促进的无需氧化剂的醛或酮作为烷基自由基来源的Minisci C-H烷基化反应对含有氮芳环药物进行后期烷基化修饰方法，将1当量的药物与0.001-0.1当量的光催化剂[Ir(dF(CF₃)ppy)₂(dtbbpy)]PF₆、1-3当量的三(三甲基硅基)硅烷、1-6当量的三氟乙酸(TFA)、10-50当量醛或酮和有机溶剂混合，向反应瓶中吹氩气，在36W的490nm蓝光照射下反应，加入碳酸氢钠溶液，再加入二氯甲烷溶液，分液，有机层干燥，旋去溶剂，柱层析得到纯品1-4，

其中R为异丙基、C3-C8的环烷基。

4.权利要求1或3所述的合成方法，其特征在于有机溶剂为乙醇、甲醇、环己烷、正己烷、正戊烷、正庚烷、石油醚、乙醚、四氢呋喃、二氯甲烷、三氯甲烷、四氯化碳、1，2-二氯乙烷、乙腈中的一种或多种。

5.按照权利要求1或3所述的合成方法，其特征在于反应溶剂为乙腈。

6.按照权利要求1、2或3所述的合成方法，其特征在于所述的反应时间为16-24小时。

7.按照权利要求1、2或3所述的合成方法，其特征在于所述的反应温度为20-50℃。