[发明专利]一种太阳电池硅片表面臭氧处理工艺及处理设备

权利要求书

1.一种太阳电池硅片表面臭氧处理工艺，其特征在于，所述的处理工艺包括如下步骤：

S1、将切割后的硅片放入碱液中进行粗抛，硅片表面损伤层与碱液反应生成可溶性硅酸盐；

S2、将经碱液处理后的硅片进行清水洗涤；

S3、将经过水洗后的硅片放入臭氧水中进行清洗；以及，

S4、将经臭氧水清洗后的硅片移至制绒工序进行表面制绒处理。

2.如权利要求1所述的一种太阳电池硅片表面臭氧处理工艺，其特征在于，在所述的步骤S2中，是将硅片通过清水溢流槽进行清洗；所述的清水溢流槽配套设置有溢流水收集器。

3.如权利要求1所述的一种太阳电池硅片表面臭氧处理工艺，其特征在于，在所述的步骤S2中，是通过清水喷淋工艺对硅片进行水洗。

4.如权利要求1所述的一种太阳电池硅片表面臭氧处理工艺，其特征在于，在所述的步骤S2中，是将硅片直接浸入水槽中进行清洗，与所述的水槽配套设置有酸液补给器。

5.如权利要求4所述的一种太阳电池硅片表面臭氧处理工艺，其特征在于，所述的水槽中设有PH值检测器，所述PH值检测器与酸液补给器相连，当水槽的PH值呈碱性时，所述酸液补给器向水槽中补充酸液。

6.一种太阳电池硅片表面臭氧处理设备，其特征在于，所述的处理设备包括碱液粗抛池，设于碱液粗抛池后的水洗装置，设于清洗水槽后的臭氧水清洗池以及设于臭氧水清洗池后的制绒设备；所述的臭氧清洗池与臭氧发生器相通。

7.如权利要求6所述的一种太阳电池硅片表面臭氧处理设备，其特征在于，所述的水洗装置为清水溢流槽，与所述的清水溢流槽配套设置有溢流水收集器。

8.如权利要求6所述的一种太阳电池硅片表面臭氧处理设备，其特征在于，所述的水洗装置为清水喷淋装置。

9.如权利要求6所述的一种太阳电池硅片表面臭氧处理设备，其特征在于，所述的水洗装置为清洗水槽，所述的清洗水槽配套设置有酸液补给器。

10.如权利要求9所述的一种太阳电池硅片表面臭氧处理设备，其特征在于，所述的清洗水槽中设有PH值检测器，所述PH值检测器与酸液补给器相连，当水槽的PH值呈碱性时，所述酸液补给器向水槽中补充酸液。