[发明专利]一种高清晰图案耐腐蚀显控面板生产工艺

权利要求书

1.一种高清晰图案耐腐蚀显控面板生产工艺，其特征在于，包括以下步骤：

步骤一：制备显控面板基板，采用聚乙烯、聚丙烯、聚四氟乙烯、轻质硬脂酸钙、滑石粉、纳米二氧化钛和纳米二氧化硅制备出显控面板基板，并对显控面板基板进行定位打孔；

步骤二：采用激光打点刻蚀的方式在显控面板基板装饰面上刻蚀出装饰图案的点图案；

步骤三：对显控面板基板装饰面表面进行打磨，在显控面板基板装饰面形成磨砂层；

步骤四：在显控面板基板装饰面的磨砂层上热压一层透明高阻隔性保护膜层，并对多余部分的透明高阻隔性保护膜层进行裁剪去除；

步骤五：制备色彩图案片材，将选择好的聚酯片材经过裁剪、色彩印刷后和烤制，制成色彩图案片材，然后在色彩图案片材上进行定位打孔，然后将制成的色彩图案片材与显控面板基板装饰面采用热压机进行热压成型；

步骤六：在显控面板基板装饰面的色彩图案片材上热压一层透明耐腐蚀性保护膜层，并对多余部分的透明耐腐蚀性保护膜层进行裁剪去除。

2.根据权利要求1所述的一种高清晰图案耐腐蚀显控面板生产工艺，其特征在于：所述步骤一中聚乙烯、聚丙烯、聚四氟乙烯、轻质硬脂酸钙、滑石粉、纳米二氧化钛和纳米二氧化硅的质量比成份为：35-40份聚乙烯、30-35份聚丙烯、25-28份聚四氟乙烯、12-14份轻质硬脂酸钙、10-12份滑石粉、8-12份纳米二氧化钛和8-12份纳米二氧化硅。

3.根据权利要求1所述的一种高清晰图案耐腐蚀显控面板生产工艺，其特征在于：所述步骤一中显控面板基板的制备过程为：

1-1：将聚乙烯、聚丙烯、聚四氟乙烯、轻质硬脂酸钙、滑石粉、纳米二氧化钛和纳米二氧化硅加入搅拌釜内，将搅拌釜内温度升高至120-135摄氏度，进行混合搅拌40-50分钟，得到混合料；

1-2：将混合料导入双螺栓挤出机内进行挤出造粒，得到母粒；

1-3：将母粒导入显控面板基板的成型模具内进行热压成型，制成显控面板基板。

4.根据权利要求1所述的一种高清晰图案耐腐蚀显控面板生产工艺，其特征在于：所述步骤二中具体过程为：

2-1：在显控面板基板装饰面的相对面上涂覆一层透光性防镀油墨；

2-2：在显控面板基板装饰面上覆盖金属镀膜，并对金属镀膜进行静压15-20分钟；

2-3：在金属镀膜表面进行激光打点刻蚀，形成装饰图案的点图案。

5.根据权利要求1所述的一种高清晰图案耐腐蚀显控面板生产工艺，其特征在于：所述步骤三中在显控面板基板表面进行打磨时，采用400-450目砂纸对显控面板基板表面进行打磨，打磨加工量为0.3-0.5毫米。

6.根据权利要求1所述的一种高清晰图案耐腐蚀显控面板生产工艺，其特征在于：所述步骤四中控制热压的透明高阻隔性保护膜层厚度为0.2-0.3毫米。

7.根据权利要求1所述的一种高清晰图案耐腐蚀显控面板生产工艺，其特征在于：所述步骤五中制备色彩图案片材的具体过程为：

5-1：将选择好的聚酯片材按照显控面板尺寸进行裁剪，控制聚酯片材的裁剪尺寸大于显控面板尺寸0.4-0.6毫米；

5-2：色彩印刷，对裁剪好的聚酯片材表面进行色彩印刷，保证色彩印刷图案与步骤二中的点图案相同且完全重合；

5-3：色彩印刷结束后将聚酯片材放入180-220摄氏度的烤箱内斤烤制3-3.8小时，制成色彩图案片材。

8.根据权利要求1所述的一种高清晰图案耐腐蚀显控面板生产工艺，其特征在于：所述步骤六中控制热压的一层透明耐腐蚀性保护膜层厚度为0.3-0.5毫米。