[发明专利]一种制备图案化聚合物的方法

权利要求书

1.一种制备图案化聚合物的方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1.喷涂光刻胶：在基底材料（1）表面涂覆一层基底光刻胶（2）；

S2.图案转移：制作有图案的光学掩模版，将光学掩模版放置在基底光刻胶（2）上方并用紫外光照射至光学掩模版上的图案转移至基底光刻胶（2）上；

S3.显影液显影：利用主要成分为碳酸钠的显影液对基底光刻胶（2）进行显影处理，在基底材料（1）上得到图案化光刻胶（3）；

S4.涂覆聚合物：烘干基底材料（1）和图案化光刻胶（3），在基底材料（1）表面涂覆一层厚度小于图案化光刻胶（3）厚度的聚合物层（4），静置至聚合物层（4）充分流平；

S5.溶解聚合物：加热烘烤聚合物层（4）至充分交联固化，再通过有机溶剂、强酸或强碱处理聚合物层（4）,使图案化光刻胶（3）顶面上的聚合物层（4）在边缘处溶解破裂直至脱落；

S6.光刻胶脱模：采用主要成分为强碱的脱膜液处理图案化光刻胶（3）和聚合物层（4），再冲洗、超声处理得到图案化的聚合物。

2.根据权利要求1所述的制备图案化聚合物的方法，其特征在于：所述S2步骤中，紫外光波长λ范围为315-400nm，光照强度i为0.1-100mW/cm²。

3.根据权利要求1或2所述的制备图案化聚合物的方法，其特征在于：所述S2步骤中紫外光的照射时间为t1为1-200s。

4.根据权利要求1所述的制备图案化聚合物的方法，其特征在于：所述S3步骤中，显影液中碳酸钠含量为0.5-3%。

5.根据权利要求1所述的制备图案化聚合物的方法，其特征在于：所述S4步骤中，烘干温度T1为40-150℃，烘干时长t2为0.5-4h。

6.根据权利要求1所述的制备图案化聚合物的方法，其特征在于：所述S5步骤中，加热烘烤聚合物层（4）的温度T2为50-200℃，加热烘烤时间t3为1-4h。

7.根据权利要求1或6所述的制备图案化聚合物的方法，其特征在于：所述S5步骤中，有机溶剂或强碱、强酸采用浸没方式处理聚合物层（4）。

8.根据权利要求1所述的制备图案化聚合物的方法，其特征在于：所述S6步骤中，将脱膜液加热至温度T3为50-100℃后再浸没处理图案化光刻胶（3）和聚合物层（4），浸没时间t4为0.5-3h。