[发明专利]一种生产一氧化硅的多反应器真空炉

权利要求书

1.一种用于生产一氧化硅的多反应器真空炉，其特征在于，包括：包括炉体(1)、多个加热反应器(3)、收集器(4)、抽真空装置(5)，炉体(1)一端设有第一炉盖(21)，另一端设有第二炉盖(22)，多个加热反应器(3)紧密堆积并设置在炉体(1)内，收集器(4)设置在炉体(1)内，每个加热反应器(3)均与收集器(4)连通，多个加热反应器(3)和收集器(4)共同形成一个密闭空间，抽真空装置(5)设于炉体(1)外，抽真空装置(5)与炉体(1)相连通。

2.根据权利要求1所述的用于生产一氧化硅的多反应器真空炉，其特征在于，多个加热反应器(3)单独加热或同时加热。

3.根据权利要求1所述的用于生产一氧化硅的多反应器真空炉，其特征在于，还包括连接管(7)，加热反应器(3)靠近第一炉盖(21)的一端为封闭端，远离第一炉盖(22)的一端为开端，收集器(4)靠近加热反应器(3)的一端为开端，远离加热反应器(3)的一端为封闭端，连接管(7)一端设有与收集器(4)连接的出气管(72)，另一端设有与加热反应器(3)一一对应的进气支管(71)，进气支管(71)与对应的加热反应器(3)的开端可拆卸密封连接，出气管(71)与收集器(4)的开端可拆卸密封连接。

4.根据权利要求3所述的用于生产一氧化硅的多反应器真空炉，其特征在于，进气支管(71)伸入对应的加热反应器(3)的开端，套合的加热反应器(3)的内壁和进气支管(71)的外壁之间设有第一密封结构，出气管(71)伸入收集器(4)的开端，套合的收集器(4)的内壁和出气管(72)的外壁之间设有第二密封结构。

5.根据权利要求3所述的用于生产一氧化硅的多反应器真空炉，其特征在于，连接管(7)采用阻温材质组成。

6.根据权利要求5所述的用于生产一氧化硅的多反应器真空炉，其特征在于，出气管(72)中设有与出气管(72)内壁之间留有间隙的阻热块(9)。

7.根据权利要求3-6任意一项所述的用于生产一氧化硅的多反应器真空炉，其特征在于，还包括导热杆(8)，第二炉盖(22)开设有与导热杆(8)相配的通孔，导热杆(8)一端与收集器(4)的封闭端固定连接，另一端贯穿通孔并伸出炉体(1)，导热杆(8)与通孔内壁密封固定连接。

8.根据权利要求7所述的用于生产一氧化硅的多反应器真空炉，其特征在于，还包括保温层(6)，保温层(6)包裹多个加热反应器(3)外表面，保温层(6)和炉体(1)内壁之间设有间隙。

9.根据权利要求8所述的用于生产一氧化硅的多反应器真空炉，其特征在于，加热反应器(3)为中频加热反应器或电阻加热反应器。

10.根据权利要求9所述的用于生产一氧化硅的多反应器真空炉，其特征在于，炉体(1)立式或者卧式放置。