[发明专利]一种双体式的有热阵列波导光栅及其制作方法

说明书

本发明涉及一种双体式的有热阵列波导光栅及其制作方法，主要通过双体式结构在有热阵列波导光栅中心波长调节上创新。将有热阵列波导光栅主体分离成两个部分，在生产过程中通过重新耦合有热阵列波导光栅主体的两个部分，能够调节有热阵列波导光栅的中心波长。相对于现有方案本专利能够对超出工作温度范围的有热阵列波导光栅加以利用，提高了原材料的利用率；相对于现有方案本专利使工作温度点较高的有热阵列波导光栅在使用过程中仅需要更低的温度补偿，使有热阵列波导光栅工作在高于室温上限(如65℃)仅几摄氏度的小的温度范围，减少了大量能源的浪费。这样可以提高工序良率减少物料成本，有效提高制作效率，降低制作成本，同时对环境更友好。

技术领域

本发明涉及光纤技术领域中的波分复用器，特别是涉及一种双体式的有热阵列波导光栅及制作方法。

背景技术

随着光纤通信正向高速率、大容量方向发展，掺铒光纤放大器(Erbium-dopedOptical Fiber Amplifier，简称“EDFA”)与密集波分复用(Dense Wavelength DivisonMultiplexing，简称“DWDM”)技术相结合已成为这一系统中的主要技术手段。有热阵列波导光栅(简称“TAWG”)是DWDM系统中的核心器件，充分利用光纤的巨大带宽，更有效地实现光纤通信系统的扩容，满足人们不断增长的通信需求，具有广阔的市场前景。

在有热阵列波导光栅应用中，器件光谱特性的中心波长到指定工作中心波长的波长精度是器件的关键参数之一。为了满足有热阵列波导光栅中心波长的波长精度，需要对有热阵列波导光栅进行温度补偿。在生产实际中存在部分有热阵列波导光栅的温度补偿过小或者过大，导致其工作温度范围超出常规的工作温度范围，如65℃～85℃。在本发明之前，这种有热阵列波导光栅只能够被报废处理。在有热阵列波导光栅应用中，功耗也是用户非常关注的一项指标。部分用户应用环境有限，功耗要求很高。而有热阵列波导光栅的加热片功耗和工作温度呈正比，为了满足这部分用户的需求，只能挑选工作温度点较低的有热阵列波导光栅进行使用。这些问题极大的降低了原材料的利用率，降低工序良率增加物料成本，降低制作效率，增加制作成本。

发明内容

本发明首先所要解决的技术问题是提供一种双体式的有热阵列波导光栅，以提高制作效率，降低制作成本。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：提供一种双体式的有热阵列波导光栅，所述有热阵列波导光栅设置有有热阵列波导光栅主体和载体以及加热片，所述有热阵列波导光栅主体可以分离成为两个部分，所述分离成两个部分的有热阵列波导光栅主体可以重新耦合以调节中心波长使有热阵列波导光栅更靠近指定工作中心波长进而可以使有热阵列波导光栅工作在高于室温上限(如65℃)仅几摄氏度的小的温度范围，所述重新耦合好的有热阵列波导光栅主体封装到载体上；所述加热片封装到载体的背面，可使有热阵列波导光栅稳定在不同的温度。

所述有热阵列波导光栅的工作温度范围可以为常规的65℃到85℃，也可以缩小工作温度范围，如65℃到75℃。

所述有热阵列波导光栅主体分离可以通过机械切割，也可以通过激光切割，还可以通过化学侵蚀等方法。

所述有热阵列波导光栅主体分离的位置可以是有热阵列波导光栅芯片垂直于波导的任意位置。

所述分离成两个部分的有热阵列波导光栅主体重新耦合时相对于分离截面可以水平移动也可以垂直移动，在芯片平面上还可以一部分主体相对于另一部分旋转移动。

所述载体为金属片、陶瓷片或者石英片等载体。

所述加热片可以使有热阵列波导光栅稳定于65℃～95℃之间的某个温度。

所述加热片为硅胶加热片、陶瓷加热片、薄膜加热片等类型加热片。

本发明另一个所要解决的技术问题是提供一种双体式的有热阵列波导光栅的制作方法。为此，本发明采用以下技术方法：