[发明专利]一种真空灭弧室

权利要求书

1.一种真空灭弧室，包括静导电杆和定位块；其特征在于：所述静导电杆为圆形直杆结构，圆形直杆结构的顶端部设为静触头连接部，底端部设为外部电的连接部；所述圆形直杆结构的中间段的周面设有至少一个铣扁处；所述定位块为非金属材料制作而成的多边形块体，该定位块设有与所述圆形直杆结构的中间段的铣扁处相适配的通孔，以使得定位块的通孔与圆形直杆结构的铣扁处相配合时，限制定位块与圆形直杆结构之间相互转动；所述圆形直杆结构的中间段设有由铣扁后形成的第一台阶，所述定位块的上端面抵在所述第一台阶处，一轴用弹性挡圈卡在圆形直杆结构的中间段并抵于所述定位块的下端面，从而限制定位块相对于所述圆形直杆结构上下移动。

2.根据权利要求1所述的真空灭弧室，其特征在于：所述圆形直杆结构的中间段的铣扁处为两个，并均匀设在所述圆形直杆结构的中间段的周面。

3.根据权利要求1或2所述的真空灭弧室，其特征在于：所述圆形直杆结构的中间段，在对应于所述一轴用弹性挡圈的卡接位置沿着周向设有第一沟槽，所述一轴用弹性挡圈卡在圆形直杆结构的中间段的第一沟槽处。

4.根据权利要求3所述的真空灭弧室，其特征在于：在所述定位块的上端面与所述第一台阶之间还装有另一轴用弹性挡圈，所述圆形直杆结构的中间段的第一台阶处还沿着周向设有第二沟槽，所述另一轴用弹性挡圈卡在圆形直杆结构的中间段的第二沟槽处并抵于所述定位块的上端面。

5.根据权利要求3所述的真空灭弧室，其特征在于：所述定位块的下端面中，在对应于所述通孔的周边还设有向上凹陷的凹槽，所述一轴用弹性挡圈容纳在所述定位块的下端面的凹槽中。

6.根据权利要求1或2所述的真空灭弧室，其特征在于：所述圆形直杆结构由变径的三段构成，其直径由下向上呈略为增加；其中，圆形直杆结构的上段与圆形直杆结构的中间段之间的变径台阶用来抵在真空灭弧室的下封接环的内侧，圆形直杆结构的下段与圆形直杆结构的中间段之间的变径台阶的高度尺寸与圆形直杆结构的铣扁处的铣扁的深度尺寸大致相同。

7.根据权利要求6所述的真空灭弧室，其特征在于：所述外部电的连接部设在所述圆形直杆结构的下段的底部，为内螺纹孔结构。