[发明专利]含噻吩基钌配合物作为高效单线态氧产生光敏剂有效
| 申请号： | 201910612879.8 | 申请日： | 2019-07-09 |
| 公开（公告）号： | CN110396092B | 公开（公告）日： | 2020-06-30 |
| 发明（设计）人： | 王克志;张思琪;李羽佳;傅英焕;尹郅涵 | 申请（专利权）人： | 北京师范大学 |
| 主分类号： | C07D471/14 | 分类号： | C07D471/14;B01J31/18;C02F1/30;C02F1/72;C02F101/30 |
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| 地址： | 100875 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 噻吩 配合 作为 高效 单线 产生 光敏剂 | ||
【权利要求书】：
1.一种含噻吩基钌配合物[Ru(dtdpq)3](ClO4)2，由阳离子和阴离子组成，其特征在于，所述阳离子为[Ru(dtdpq)3]2+，结构如下式所示：
2.权利要求1所述的含噻吩基钌配合物的制备方法，其特征在于，先制备dtdpq，然后按照计量摩尔比称取RuCl3·3H2O与dtdpq于乙二醇中，氮气保护下加热回流反应10小时，反应结束后冷却至室温，沉淀为高氯酸盐后，过滤，将滤液进行柱层析分离，展开剂为体积比为5:1:0.5的二氯甲烷-甲醇-N,N-二甲基甲酰胺混合溶剂，减压蒸馏除去大部分溶剂后，加入乙醚扩散重结晶，得到目标产物。
3.光照条件下，含噻吩基钌配合物[Ru(dtdpq)3](ClO4)2在水溶液中具有较高的单线态氧产率，可作为高效单线态氧产生光敏剂。
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