[发明专利]一种层状二硅酸锶及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种层状二硅酸锶的制备方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：

S1、将硅酸钠和可溶性锶盐于溶剂中混合均匀，之后将所得混合溶液进行水热反应，得到水热反应产物；所述水热反应的条件包括将温度从室温升至反应温度的升温速率为5~15℃/min，反应温度为240~260℃，反应时间为2~4h；所述溶剂为水；

S2、将所述水热反应产物冷却至50℃以下之后过滤，并将所得固体产物依次进行洗涤、烘干和研磨，得到所述层状二硅酸锶。

2.根据权利要求1所述的层状二硅酸锶的制备方法，其特征在于，所述可溶性锶盐选自氯化锶、硝酸锶和溴化锶中的至少一种。

3.根据权利要求1所述的层状二硅酸锶的制备方法，其特征在于，所述硅酸钠以硅酸钠溶液的形式使用，所述可溶性锶盐以可溶性锶盐溶液的形式使用，且所述硅酸钠溶液和可溶性锶盐溶液的浓度各自独立地为0.01~0.5mol/L；所述硅酸钠溶液和可溶性锶盐溶液的体积比为1:(1.2~4)。

4.根据权利要求1~3中任意一项所述的层状二硅酸锶的制备方法，其特征在于，步骤S2中，将所述水热反应产物冷却至15~50℃。

5.根据权利要求1~3中任意一项所述的层状二硅酸锶的制备方法，其特征在于，步骤S2中，所述洗涤的方式为将所述固体产物采用去离子水洗涤至中性。

6.根据权利要求1~3中任意一项所述的层状二硅酸锶的制备方法，其特征在于，步骤S2中，所述烘干的条件包括烘干温度为100~110℃，烘干时间为2~4h。

7.根据权利要求1~3中任意一项所述的层状二硅酸锶的制备方法，其特征在于，步骤S2中，所述研磨的条件以将产物粒径D₉₀控制在0.1~0.4mm为准。

8.由权利要求1~7中任意一项所述的方法制备得到的层状二硅酸锶。

9.权利要求8所述的层状二硅酸锶作为电绝缘材料、隔热材料或发光材料的应用。