[发明专利]背光模组及其制作方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 201910614835.9 申请日: 2019-07-09
公开(公告)号: CN110161620B 公开(公告)日: 2021-01-29
发明(设计)人: 谭伟;董水浪;谭纪风;孟宪东 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G02B6/00 分类号: G02B6/00;G03F7/00
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 黄灿;张博
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 背光 模组 及其 制作方法 显示装置
【说明书】:

发明提供了一种背光模组及其制作方法、显示装置,属于显示技术领域。其中,背光模组的制作方法包括:在导光板的出光面形成取光光栅材料层;通过纳米压印工艺在所述取光光栅材料层上形成压印胶图形;在待形成取光光栅的区域形成覆盖所述压印胶图形的光刻胶图形;去除未被所述光刻胶图形覆盖的压印胶图形;去除所述光刻胶图形,以残留的压印胶图形为掩膜对所述取光光栅材料层进行刻蚀,形成取光光栅。本发明的技术方案能够改善显示装置的对比度。

技术领域

本发明涉及显示技术领域,特别是指一种背光模组及其制作方法、显示装置。

背景技术

相关技术的背光模组包括导光板和位于导光板出光侧的取光光栅,取光光栅能够将在导光板中全反射传播的大角度光线以准直角度取出,实现了高透过率的准直光源。但在导光板的出光侧制作取光光栅时,会对导光板的出光面造成损伤,增加导光板的出光面的粗糙度,使得光波导界面出现漏光现象,从而导致显示对比度降低。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种背光模组及其制作方法、显示装置,能够改善显示装置的对比度。

为解决上述技术问题,本发明的实施例提供技术方案如下:

一方面,提供一种背光模组的制作方法,包括:

在导光板的出光面形成取光光栅材料层;

通过纳米压印工艺在所述取光光栅材料层上形成压印胶图形;

在待形成取光光栅的区域形成覆盖所述压印胶图形的光刻胶图形;

去除未被所述光刻胶图形覆盖的压印胶图形;

去除所述光刻胶图形,以残留的压印胶图形为掩膜对所述取光光栅材料层进行刻蚀,形成取光光栅。

可选地,所述去除未被所述光刻胶图形覆盖的压印胶图形包括:

利用能够溶解所述压印胶图形的溶液清洗掉未被所述光刻胶图形覆盖的压印胶图形或降解去除未被所述光刻胶图形覆盖的压印胶图形。

可选地,所述压印胶图形采用乙酸-1-甲氧基-2-丙基酯和丙烯酸酯单体的混合物。

可选地,所述压印胶图形中,乙酸-1-甲氧基-2-丙基酯的重量百分比为70%-80%,丙烯酸酯单体的重量百分比为15%-25%。

可选地,所述溶液采用N-甲基吡咯烷酮溶液。

可选地,所述取光光栅材料层采用折射率大于1.8的透明无机材料。

可选地,形成取光光栅之后,所述制作方法还包括:

形成覆盖所述取光光栅的平坦层。

可选地,所述平坦层采用折射率低于1.3的透明材料。

本发明实施例还提供了一种背光模组,采用如上所述的制作方法制作得到。

本发明实施例还提供了一种显示装置,包括如上所述的背光模组。

本发明的实施例具有以下有益效果:

上述方案中,在形成取光光栅时,是以残留的压印胶图形为掩膜对整层的取光光栅材料层进行刻蚀,形成取光光栅,不会对取光光栅材料层下的导光板出光面造成损伤,能够避免在取光光栅材料层下的导光板出光面上形成光栅结构,保证了导光板出光面的光滑,使得光线在导光板内部全反射传输时,在上下界面不会出现漏光现象,保证取光光栅取光的准直度,改善显示装置的对比度。

附图说明

图1为相关技术背光模组的示意图;

图2-图6为相关技术制作背光模组的示意图;

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