[发明专利]一种同轴相机主次镜在轨姿态测量系统有效

专利信息
申请号: 201910616490.0 申请日: 2019-07-09
公开(公告)号: CN110411713B 公开(公告)日: 2021-07-13
发明(设计)人: 吴俊;姜宏佳;邸晶晶;窦莲英;李玲;孙德伟;李瀛搏;孙世君 申请(专利权)人: 北京空间机电研究所
主分类号: G01M11/00 分类号: G01M11/00;G01M11/02;G01M11/08
代理公司: 中国航天科技专利中心 11009 代理人: 褚鹏蛟
地址: 100076 北京市丰*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 同轴 相机 主次 姿态 测量 系统
【权利要求书】:

1.一种同轴相机主次镜在轨姿态测量系统,其特征在于,包括两个位移传感装置(1)、两个激光发射装置(2)、两个光电接收装置(3)、数据处理模块;

所述两个位移传感装置(1)分别安装于主镜(4)上和次镜(5)上,分别用于测量主镜(4)和次镜(5)的位移,然后输出给所述数据处理模块;

所述两个激光发射装置(2)均安装于次镜(5)上,均用于发射激光脉冲;

所述两个光电接收装置(3)均安装于主镜(4)上,并分别用于接收两个激光发射装置(2)发射的激光脉冲信号,然后输出光斑的数字图像给所述数据处理模块;所述两个激光发射装置(2)和两个光电接收装置(3)位于同一平面内;

所述数据处理模块用于根据所述主镜(4)的位移、次镜(5)的位移、光斑的数字图像获得主镜(4)和次镜(5)的相对位置和姿态变化。

2.根据权利要求1所述的一种同轴相机主次镜在轨姿态测量系统,其特征在于,所述两个位移传感装置(1)分别安装于主镜(4)背面和次镜(5)背面。

3.根据权利要求1所述的一种同轴相机主次镜在轨姿态测量系统,其特征在于,所述两个激光发射装置(2)分别安装于次镜(5)的直径的两端,所述两个光电接收装置(3)分别安装于主镜(4)的直径的两端。

4.根据权利要求1所述的一种同轴相机主次镜在轨姿态测量系统,其特征在于,所述光电接收装置(3)均为面阵探测器。

5.根据权利要求1所述的一种同轴相机主次镜在轨姿态测量系统,其特征在于,所述数据处理模块获得主镜(4)和次镜(5)的相对位置变化包括主次镜沿光轴轴向相对平移和主次镜沿光轴径向相对平移;所述主次镜沿光轴轴向相对平移为:

式中,ΔH为主次镜镜间距变化量,y11为第一光斑的数字图像沿Y轴位移量,y01为第一光斑的数字图像的Y轴坐标,y22为第二光斑的数字图像沿Y轴位移量,y02为第二光斑的数字图像的Y轴坐标,u为光电接收装置(3)的像元尺寸,H为激光光束后方交会点至光电接收装置(3)的距离,L为两个光电接收装置(3)的中心之间的距离;

所述主次镜沿光轴径向相对平移为:

两个位移传感装置(1)测量到的主镜(4)和次镜(5)在X轴方向位移的差值,和两个位移传感装置(1)测量到的主镜(4)和次镜(5)在Y轴方向位移的差值。

6.根据权利要求1所述的一种同轴相机主次镜在轨姿态测量系统,其特征在于,所述次镜(5)能够六自由度调整姿态。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京空间机电研究所,未经北京空间机电研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910616490.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top