[发明专利]X射线成像设备的自动曝光参数的计算方法及装置有效
申请号: | 201910617645.2 | 申请日: | 2019-07-09 |
公开(公告)号: | CN110269635B | 公开(公告)日: | 2023-05-02 |
发明(设计)人: | 邹鲁民 | 申请(专利权)人: | 北京友通上昊科技有限公司 |
主分类号: | A61B6/00 | 分类号: | A61B6/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 任岩 |
地址: | 101111 北京市大兴区*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 射线 成像 设备 自动 曝光 参数 计算方法 装置 | ||
本发明提供了一种X射线成像设备的自动曝光参数的计算方法及装置,该方法包括:对处理对象的拍摄部位进行第一次预曝光,获取第一图像以及所述第一图像的第一ROI区信息;根据所述第一ROI区信息,对所述拍摄部位进行第二次预曝光,获取第二图像;对所述第一图像和第二图像进行能量减影,确定特征图像,以确定部位类别;根据所述第一ROI区信息,并对所述拍摄部位进行主曝光,确定第三图像;根据所述部位类别、特征图像和第一ROI区信息,确定所述第三图像的处理参数。本发明基于实际图像内容的计算,获取曝光参数,对于各种类别图像均可获得较好的处理结果,能有效提高曝光参数的准确性。
技术领域
本发明涉及曝光成像领域,尤其涉及一种X射线成像设备的自动曝光参数的计算方法。
背景技术
在DR系统(数字X射线)中,经常需要用电离室检测到达探测器的X射线剂量,然后使用自动曝光控制(AEC)根据电离室检测的反馈信号来切断X射线信号,以控制到达平板探测器的剂量,获得患者的图像。因此,在实际使用中,技术人员经常根据经验来设定一系列与患者部位图像灰度相对应的目标剂量,通过控制到达探测器的X射线剂量,实现对图像质量的控制。这种情况下,图像质量完全依赖于技术人员的经验,技术人员要非常熟悉不同人体体型、部位的曝光参数,因此,该DR系统在操作上对技术人员有比较高的要求,精确度极易受到人为因素的干扰,存在误差率极高的技术缺陷。
发明内容
(一)要解决的技术问题
本发明的目的在于提供一种X射线成像设备的自动曝光参数的计算方法及装置,以解决上述的至少一项技术问题。
(二)技术方案
本发明实施例提供了一种X射线成像设备的自动曝光参数的计算方法,包括:
对处理对象的拍摄部位进行第一次预曝光,获取第一图像以及所述第一图像的第一ROI区信息;
根据所述第一ROI区信息,对所述拍摄部位进行第二次预曝光,获取第二图像;
对所述第一图像和第二图像进行能量减影,确定特征图像,以确定部位类别;
根据所述第一ROI区信息,并对所述拍摄部位进行主曝光,确定第三图像;
根据所述部位类别、特征图像和第一ROI区信息,确定所述第三图像的处理参数。
进一步地,所述第一次预曝光的kV值范围为120~125,mAs的范围为0.03~0.25。
进一步地,对所述第一图像和第二图像进行能量减影,还包括步骤:对所述第一图像采样,确定采样后的第一图像;对所述第二图像采样,确定采样后的第二图像。
进一步地,所述特征图像包括骨图像与软组织图像。
进一步地,确定部位类别包括步骤:对所述骨图像和软组织图像进行内容识别,确定部位类别,所述部位类别包括部位位置以及部位厚度。
进一步地,通过对所述第一图像进行分割,识别所述第一图像的第一ROI区信息。
进一步地,所述第二次预曝光的kV值范围为60~65;
其mAs的设定值是根据所述第一ROI区信息的灰度值以及所述第二次预曝光的kV值计算得到的。
进一步地,所述主曝光的kV值是根据所述部位类别、特征图像以及厚度确定的;
其mAs的设定值是根据第一ROI区信息在第一图像和第二图像中的灰度值、以及所述主曝光的kV值计算得到的。
进一步地,所述处理参数包括Mask设定参数、WW/WL计算参数和EXI计算参数。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京友通上昊科技有限公司,未经北京友通上昊科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910617645.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。