[发明专利]一种铱金属配合物及其制备方法和应用在审
| 申请号： | 201910619238.5 | 申请日： | 2019-07-10 |
| 公开（公告）号： | CN110330531A | 公开（公告）日： | 2019-10-15 |
| 发明（设计）人： | 王辉;李建行;王猛;郎兴旺;李明;李泉池;马晓宇 | 申请（专利权）人： | 吉林奥来德光电材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C07F15/00 | 分类号： | C07F15/00;C09K11/06;H01L51/50;H01L51/54 |
| 代理公司： | 长春众邦菁华知识产权代理有限公司 22214 | 代理人： | 周蕾 |
| 地址： | 130012 吉林*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 铱金属配合物 非取代 制备方法和应用 制备 有机电致发光器件 有机金属化合物 烷基 调节化合物 芳族杂环基 含氧化合物 产物纯度 发光效率 配体结合 取代位置 使用寿命 稠环基 波长 芳基 氰基 杂环 | ||
1.一种铱金属配合物，其特征在于，其结构如化学式1所示：
化学式1中：
R1、R2、R3和R4各自独立地选自氢、氘、卤素、氰基、取代或非取代的C1-C6烷基、取代或非取代的C6-C18芳基、取代或非取代的C4-C12芳族杂环基、或取代或非取代的C8～C16的稠环基；
R1、R2、R3和R4各自的取代位置为所在环的任意位置；R1和R2取代基的数量均为0～4，R3取代基的数量为0～2，R4取代基的数量为0～3；
Rn为含氧化合物，其取代位置为所在杂芳环的任意位置，Rn取代基数量为0～4；Rn结构可由化学式2表示：
化学式2中：
R5和R6各自独立地选自氢、氘、卤素、氰基、取代或非取代的C1-C6烷基、取代或非取代的C6-C12芳基、取代或非取代的C4-C10芳族杂环基、或取代或非取代的C8～C16的稠环基；
R7选自氢、氘、取代或非取代的C1-C6烷基、取代或非取代的C6-C12芳基、取代或非取代的C4-C10芳族杂环基、或取代或非取代的C8～C16的稠环基；
X代表连接位置。
2.根据权利要求1所述的铱金属配合物，其特征在于，
R1、R2、R3和R4各自独立的与所在环上其他取代基相互形成取代或非取代的C3～C30脂肪族环、取代或非取代的C6～C60芳环、取代或非取代的C2～C60芳杂环、取代或非取代的C6～C60稠环、或取代或非取代的C5～C60螺环；
或者：
R1、R2、R3和R4之间相互形取代或非取代的C3～C30脂肪族环、取代或非取代的C6～C60芳环、取代或非取代的C2～C60芳杂环、取代或非取代的C6～C60稠环、或取代或非取代的C5～C60螺环；
所述脂肪族环、芳环、芳杂环、稠环、螺环上的取代基至少选自氢、氘、卤素、氰基、取代或非取代的C1-C6烷基、取代或非取代的C6-C18芳基、取代或非取代的C4-C12芳族杂环基、取代或非取代的C8～C16的稠环基和取代或非取代的C5～C60螺环中的一种。
3.根据权利要求1所述的铱金属配合物，其特征在于，当R5、R6和R7上含有取代基时，其取代基至少选自氢、卤素、氰基、硝基、羟基、氨基、磺酸基、磺酰基、磷酸基、磷酰基、取代或非取代的硅基、硼烷基、磷基、取代或非取代的C1～C60的烷基、烷氧基、烷胺基、烷巯基、C3～C60的环烷基、取代或非取代的C6～C60的芳基、C7～C60的芳烷基、C8～C60的芳烯基、C6～C60的芳胺基、C6～C60的芳巯基、C2～C60的杂芳基、C10～C60的稠环基和C10～C60的螺环基中的一种。
4.根据权利要求1所述的铱金属配合物，其特征在于，Rn表示下述结构中的任意一个：
5.根据权利要求1所述的铱金属配合物，其特征在于，其选自下述结构中的任意一个：
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