[发明专利]铝合金溅射靶材

说明书

本发明是一种铝合金溅射靶材，其包含含有0.1原子％～3原子％的Nd的铝合金，X射线衍射峰值强度满足下述式(1)的关系，维氏硬度为29～36；I_Al(200)＞I_Al(311)＞I_Al(220)＞I_Al(111)…(1)式中，I_Al(200)表示Al(200)面的X射线衍射峰值强度，I_Al(311)表示Al(311)面的X射线衍射峰值强度，I_Al(220)表示Al(220)面的X射线衍射峰值强度，I_Al(111)表示Al(111)面的X射线衍射峰值强度。

本发明是2016年04月20日所提出的申请号为201680029641.7、发明名称为《铝合金溅射靶材》的发明专利申请的分案申请。本申请是基于2015年6月5日提出申请的日本专利申请(日本专利特愿2015-115184)者，其内容作为参照被引用至本申请中。

技术领域

本发明涉及一种铝合金溅射靶材。本发明特别涉及一种能以高的成膜速度形成铝合金薄膜的铝合金溅射靶材。

背景技术

作为提高触摸屏等显示装置、例如液晶显示器等的生产性的方法之一，可列举：在构成所述触摸屏的例如引出配线膜及触摸屏传感器的配线膜的形成时，将薄膜快速成膜。在利用溅射法将薄膜成膜时，可通过提高溅射功率即电力而提高成膜速度。但是，若提高溅射功率，则会产生以下不良情况：容易产生电弧放电(arcing)或飞溅(splash)等成膜异常，触摸屏等的良率降低等。因此，期望即便不提高溅射功率也可提高成膜速度的溅射靶材。

然而，所述液晶显示器的配线膜使用兼具低电阻率与高耐热性的Al-Nd合金薄膜。所述Al-Nd合金薄膜的成膜方法采用溅射法，Al-Nd合金溅射靶材用作薄膜形成的原材料。作为所述Al-Nd合金溅射靶材，至今为止提出了以下的专利文献1～专利文献5的技术。

在专利文献1中，揭示了通过降低Al基合金溅射靶材的Fe含量，而可提供显示装置用耐碱腐蚀性优异的铝合金膜。在专利文献2中，揭示了通过降低铝合金溅射靶材的表面的维氏硬度(Vickers hardness)的不均，而可制作膜均匀性优异的液晶等的铝合金膜。

在专利文献3中，揭示了通过使用既定的合金组成的Al基合金溅射靶材，而可形成耐热性、空隙耐性、及小丘(hillock)耐性等优异的热打印机的铝合金电极。此外，在专利文献4中，揭示了通过使用既定的合金组成的Al-Nd合金溅射靶材，而可抑制液晶显示器用导电部的Al-Nd合金薄膜的在退火处理后的小丘产生，并且可降低电阻值。

在专利文献5中，揭示了通过使用降低了含氧量的Al-Nd合金溅射靶材，而可抑制构成液晶显示器用电极的合金薄膜的小丘产生，并且可降低比电阻值。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利特开2012-132091号公报

专利文献2：日本专利特开2004-204284号公报

专利文献3：日本专利特开2003-103821号公报

专利文献4：日本专利特开2001-125123号公报

专利文献5：日本专利特开2001-93862号公报

发明内容

发明所要解决的问题

如上所述那样，在专利文献1～专利文献5中，揭示了为了提高所形成的膜的特性等，而控制溅射靶材的成分组成等，但并未列举提高成膜速度来提高显示装置的生产性等问题，也未揭示解决所述问题的技术手段。