[发明专利]化学气相沉积优化腔室

权利要求书

1.一种化学气相沉积优化腔室，其特征在于，包括：旋转轴以及电阻加热器；沉积腔壁，所述沉积腔壁设有保温层，所述保温层围成沉积腔室；石墨基座，所述基座用于放置衬底；喷淋头，设置在基座上方与其平行。

2.如权利要求1所述的化学气相沉积优化腔室，其特征在于，所述旋转轴固定在石墨基座中心，其自转可以提升沉积膜层的均匀性。

3.如权利要求书2所述的化学气相沉积优化腔室，其特征在于，所述石墨基座上设有凹槽用于放置衬底，通过所述石墨基座传热给衬底进行沉积。

4.如权利要求书2和3所述的化学气相沉积优化腔室，其特征在于，所述石墨基座底部设有电阻加热器，通过所述电阻加热器对石墨基座上的衬底加热。

5.如权利要求书1所述的化学气相沉积优化腔室，其特征在于，所述喷淋头共用一套气体源，所述气体源通过进气管道进入喷淋头。

6.如权利要求书1至5所述任一的化学气相沉积优化腔室，其特征在于，还包括：排气口，位于沉积腔室底部，多余气体沿基座流向外侧，通过排气口排出。