[发明专利]实现测头位姿自调整的非球面面形摆臂式检测装置与方法在审
申请号: | 201910620094.5 | 申请日: | 2019-07-10 |
公开(公告)号: | CN110345859A | 公开(公告)日: | 2019-10-18 |
发明(设计)人: | 胡违军;王文;卢科青;时光;郭宗福;陈占锋;居冰峰 | 申请(专利权)人: | 杭州电子科技大学;浙江大学 |
主分类号: | G01B7/28 | 分类号: | G01B7/28;G01B7/293 |
代理公司: | 杭州君度专利代理事务所(特殊普通合伙) 33240 | 代理人: | 黄前泽 |
地址: | 310018 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 非球面 测头 接触式测头 竖直调整装置 非球面面形 加工平台 检测装置 摆臂式 测量臂 转动台 自调整 精调 位姿 摆臂式轮廓仪 多自由度调整 水平驱动机构 传感器测头 摆臂旋转 测量装置 测头模块 技术难度 竖直状态 移动摆臂 制造过程 转动摆臂 自动完成 双电容 检测 保证 | ||
1.实现测头位姿自调整的非球面面形摆臂式检测装置,包括测量装置,其特征在于:还包括双电容传感器测头;所述的双电容传感器测头固定在加工平台的转动台面上;所述的测量装置包括水平驱动机构、摆臂旋转平台、测量臂、测头竖直调整装置和测头模块;所述的测量臂由转动摆臂和移动摆臂组成;移动摆臂固定在直线电机一的输出轴上,并与转动摆臂的燕尾形导轨构成滑动副;直线电机一的底座固定在转动摆臂上;转动摆臂与摆臂旋转平台的转台构成转动副;摆臂旋转平台的座体由水平驱动机构驱动;配重块固定在转动摆臂上,且配重块和移动摆臂分设在转动摆臂两端;移动摆臂的中心轴线与转动摆臂的中心轴线重合,并与摆臂旋转平台的中心轴线垂直;
所述的测头竖直调整装置包括绕X轴调整装置和绕Y轴调整装置;所述的绕X轴调整装置包括主蜗杆机构和副蜗杆机构;所述的主蜗杆机构包括相互啮合的主蜗杆和主涡轮环;所述的副蜗杆机构包括相互啮合的副蜗杆和副涡轮环;主蜗杆和副蜗杆平行设置,且均与摆臂旋转平台的转台构成转动副;主蜗杆和副蜗杆分别由一个步进电机一驱动;主蜗杆的旋转轴线垂直于转动摆臂的旋转轴线和摆臂旋转平台的转台旋转轴线;所述的主涡轮环和副涡轮环同轴且间距固定在转动摆臂上;所述的绕Y轴调整装置包括步进电机二、摩擦棘轮机构、齿轮、齿条和螺杆机构;所述的螺杆机构由螺杆和螺母块组成;所述步进电机二的底座固定在调整座上;调整座固定在移动摆臂上;螺杆与步进电机二的输出轴通过联轴器固定,并通过轴承支承在支座一上;支座一固定在调整座上;所述的螺母块与螺杆构成螺旋副,并与直线导轨构成滑动副;所述的直线导轨固定在调整座上;所述的齿条与螺母块固定,并与齿轮啮合;支承轴通过轴承支承在支座二上;支座二固定在调整座上;所述的摩擦棘轮机构由摩擦棘轮、弧形止逆件和弹簧片组成;所述的摩擦棘轮固定在齿轮端面上,齿轮空套在支承轴上;所述的弧形止逆件与调整座构成转动副,并与摩擦棘轮构成滑动摩擦副;弧形止逆件与摩擦棘轮的接触面由两个曲面连接而成,且其中一个曲面的最小曲率半径等于另一个曲面的最大曲率半径;所述弹簧片的一端与弧形止逆件固定,另一端与调整座固定;弧形止逆件设置在摩擦棘轮和弹簧片之间;
所述的测头模块由夹具和非球面接触式测头组成;所述的夹具固定在支承轴上,绕Y轴调整装置的齿轮固定在夹具上;所述的非球面接触式测头由夹具夹持。
2.根据权利要求1所述实现测头位姿自调整的非球面面形摆臂式检测装置,其特征在于:所述的摆臂旋转平台包括转台、座体和旋转电机;所述的转台与座体构成转动副,并与旋转电机的输出轴固定;所述旋转电机的底座固定在座体上;旋转电机由控制器控制。
3.根据权利要求1所述实现测头位姿自调整的非球面面形摆臂式检测装置,其特征在于:所述的水平驱动机构包括滑动块和直线滑轨;摆臂旋转平台的座体与滑动块固定;滑动块与直线滑轨构成滑动副,并由直线电机二驱动;所述直线电机二的底座固定在加工平台的底座上;直线电机二由控制器控制。
4.根据权利要求1、2或3所述实现测头位姿自调整的非球面面形摆臂式检测装置,其特征在于:所述的步进电机一、步进电机二和直线电机一均由控制器控制,加工平台的转动台面启停也由控制器控制;双电容式测头的信号传给控制器。
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