[发明专利]一种抛光衬垫及其制备方法

权利要求书

1.一种抛光衬垫，其特征在于，所述抛光衬垫包括工作层和缓冲层，所述缓冲层覆盖在工作层表面，工作层远离缓冲层的一面设有多个沟槽；

其中，所述工作层按重量百分比由以下组份配制而成：填料20～50份，结合剂45～70份，分散剂1～10份。

2.根据权利要求1所述的一种抛光衬垫，其特征在于，所述工作层按重量百分比由以下组份配制而成：填料20％～50％，结合剂45％～70％，分散剂1％～10％。

3.根据权利要求1所述的一种抛光衬垫，其特征在于，所述填料为碳酸钙、硫酸钡、碳酸氢钠、硅酸钙中的一种或几种的组合。

4.根据权利要求1所述的一种抛光衬垫，其特征在于，所述结合剂为缩水甘油酯类环氧树脂、脂环族类环氧树脂、有机硅环氧树脂、环氧丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、乙烯基醚树脂中的一种或几种的组合。

5.根据权利要求1所述的一种抛光衬垫，其特征在于，所述分散剂包括单不局限于乙烯基双硬脂酰胺、硬脂酸甘油酯、聚乙二醇、油氨基油酸酯。

6.根据权利要求1-5任一所述的一种抛光衬垫，其特征在于，所述缓冲层为PC板材。

7.一种如权利要求1-6任一所述的抛光衬垫的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤1)称取抛光衬垫中工作层所需的原料；

步骤2)将步骤1中称取的原料充分混合后，填充到模具中；

步骤3)利用真空机脱泡处理，最后放置于烘箱中固化成型，自然冷却至室温；

步骤4)自然冷却至室温，在制作好的工作层上覆盖一层缓冲层。

8.根据权利要求7所述的一种抛光衬垫的制备方法，其特征在于，所述步骤2)中各物料搅拌20～30min。

9.根据权利要求7所述的一种抛光衬垫的制备方法，其特征在于，所述步骤3)中在真空机中脱泡处理20-30min，真空机中的压强为-90～-110kpa。

10.根据权利要求7所述的一种抛光衬垫的制备方法，其特征在于，所述步骤3)中真空机脱泡处理后放置于烘箱中固化成型的温度为120-150℃。