[发明专利]化学气相均匀沉积炉

权利要求书

1.一种化学气相均匀沉积炉，包括带有炉底的炉体，炉体内安装有专用的沉积腔室，沉积腔室连接有进气装置，其特征在于：所述的沉积腔室包括上端部的腔室上圈与腔室下圈，腔室上圈与腔室下圈是内侧面为光滑面的筒壁；所述化学气相均匀沉积炉还包括底部加热装置，底部加热装置包括石墨加热器，以及开口向上的凹槽用于沉积薄膜；所述进气系统都是不锈钢管道，管内进行电抛光，管道的接头用氩弧焊或VCR及Swagelok方式连接并进行正压检漏。

2.根据权利要求1所述化学气相均匀沉积炉，其特征在于，所述炉体内沉积腔室底部向上的凹槽，所述反应衬底固定在所述凹槽处。

3.根据权利要求2所述化学气相均匀沉积炉，其特征在于，所述炉体内沉积腔室底部为石墨盘，加热方式为电阻器加热固定在所述石墨盘下方。

4.根据权利要求1所述化学气相均匀沉积炉，其特征在于，所述炉体内沉积腔室侧壁上设有压力传感器，所述压力传感器用于测试沉积腔室内的气压。

5.根据权利要求3所述化学气相均匀沉积炉，其特征在于，所述沉积炉底部有排气口，所述排气口用于排出反应后的废气。

6.根据权利要求2至5所述化学气相均匀沉积炉，其特征在于，所述炉体内腔壁设有水冷夹层，所述水冷夹层上设有进水口和出水口。

7.根据权利要求6所述化学气相均匀沉积炉，其特征在于，所述炉体内腔壁设有保温层，所述沉积腔室被保温层围成。

8.根据权利要求1至7任一所述化学气相均匀沉积炉，其特征在于，所述化学气相均匀沉积炉设有进气系统，所述进气系统由导流管以及圆盘均匀喷嘴组成。