[发明专利]一种基于磁流变加工的连续型螺旋相位板制备方法

权利要求书

1.一种基于磁流变加工的连续型螺旋相位板制备方法，其特征在于，包括：

S1：获取螺旋相位板的设计面形数据，其中设计面形长度为m，设计面形宽度为n，单位为mm；

S2：选择基板，其中基板长度不小于m，宽度不小于n；并测量基板面形数据；判断基板面形数据是否满足PV≤1λ；若满足，则执行步骤S3；其中，PV表示面形数据中最大值和最小值的差值；

λ是元件检测采用的光学干涉仪的激光光源波长，光源波长有多种规格，包括632.8nm、658nm、1053nm；

S3：对螺旋相位板的设计面形数据和基板面形数据进行误差匹配，得到残余误差面形数据；

S4：判断残余误差面形数据的均方根是否小于预设阈值；若否，则基于梯度匹配方法选择磁流变去除函数；其中，基于梯度匹配方法选择磁流变去除函数的具体步骤包括：

S41：计算残余误差面形数据中每个数据点的梯度，得到梯度数据矩阵；

S42：计算梯度数据矩阵的PV值；

S43：计算残余误差面形数据的台阶面的宽度；

S44：基于台阶面的宽度和梯度数据矩阵的PV值选取去除函数，选取原则为：去除函数短边宽度小于台阶面宽度的预设比例，且去除函数最大梯度大于梯度数据矩阵的PV值的预设倍数；

S5：在确定了磁流变去除函数和残余误差面形数据后，计算驻留时间，并对应生成磁流变机床的数控程序；

S6：基于选取的基板和生成的磁流变机床的数控程序进行磁流变加工，得到螺旋相位板元件；

S7：测量螺旋相位板元件面形数据，并与所述设计面形数据进行误差匹配，得到新的残余误差面形数据，并重复执行步骤S4～S7，直至残余误差面形数据的均方根小于预设阈值，螺旋相位板制备完成。

2.根据权利要求1所述的一种基于磁流变加工的连续型螺旋相位板制备方法，其特征在于，在步骤S2中，若基板面形数据不满足PV≤1λ，则重新选择新的基板。

3.根据权利要求1所述的一种基于磁流变加工的连续型螺旋相位板制备方法，其特征在于，在步骤S4中，若残余误差面形数据的均方根小于预设阈值，则螺旋相位板制备完成。

4.根据权利要求1所述的一种基于磁流变加工的连续型螺旋相位板制备方法，其特征在于，所述预设阈值为30nm。

5.根据权利要求1所述的一种基于磁流变加工的连续型螺旋相位板制备方法，其特征在于，所述预设比例为2/3。

6.根据权利要求1所述的一种基于磁流变加工的连续型螺旋相位板制备方法，其特征在于，所述预设倍数为1.5。