[发明专利]气相外延室

权利要求书

1.一种气相外延室，其特征在于，包括：

壳体(10)；

生长室(20)，所述生长室(20)设置在所述壳体(10)内，以用于盛放衬底；

反应装置(30)，所述反应装置(30)设置在所述壳体(10)内，所述反应装置(30)用于容纳反应物，以使反应物在所述反应装置(30)内反应以生成用于使所述衬底上生成延生层的气体；

匀气装置(40)，包括至少两个进气口，所述匀气装置(40)的至少一个进气口与所述反应装置(30)连通，所述匀气装置(40)的出气口与所述生长室(20)连通；

所述气相外延室还包括回气装置(60)，所述回气装置(60)与所述生长室(20)连通，以将所述生长室(20)内与所述衬底反应后的气体排出；

其中，所述回气装置(60)包括回气管道，所述回气管道环绕所述匀气装置(40)设置，所述回气管道上设有多个回气孔，多个回气孔间隔地设置在所述回气管道上。

2.根据权利要求1所述的气相外延室，其特征在于，所述匀气装置(40)设置在所述反应装置(30)与所述生长室(20)之间，以使所述反应装置(30)内生成的气体通过所述匀气装置(40)吹向所述生长室(20)内的衬底的不同部位；

其中，所述匀气装置(40)的至少一个进气口朝向所述反应装置(30)设置，所述匀气装置的出气口朝向所述生长室(20)设置。

3.根据权利要求1所述的气相外延室，其特征在于，所述反应装置(30)为多个，每个所述反应装置(30)分别与所述匀气装置(40)的至少一个进气口连通。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的气相外延室，其特征在于，所述气相外延室还包括：

通气管(50)，所述通气管(50)设置在所述反应装置(30)内，所述通气管(50)具有进气端和出气端，所述进气端设置在所述反应装置(30)内高于所述反应装置(30)内的反应物，所述出气端与所述匀气装置(40)的至少一个进气口连通。

5.根据权利要求1至3中任一项所述的气相外延室，其特征在于，所述反应装置(30)上设有第一进料口(31)，所述第一进料口(31)设置在所述反应装置(30)的上部，以用于向所述反应装置(30)内添加固体或液体反应物。

6.根据权利要求5所述的气相外延室，其特征在于，所述反应装置(30)上还设有至少一个第二进料口(32)，所述第二进料口(32)设置在所述反应装置(30)重力方向的底部。

7.根据权利要求1所述的气相外延室，其特征在于，所述气相外延室还包括：

加热组件，所述加热组件包裹的设置在所述反应装置(30)和/或所述生长室(20)的外侧；

隔热组件，所述隔热组件设置在所述壳体(10)的内侧，以将所述壳体(10)至少部分地与所述加热组件进行隔离。

8.根据权利要求7所述的气相外延室，其特征在于，所述加热组件包括第一加热装置(71)，所述第一加热装置(71)用于对所述生长室(20)进行加热；所述隔热组件包括第二降温板(82)，所述第二降温板(82)设置在所述第一加热装置(71)与所述壳体(10)之间，以至少部分地将所述第一加热装置(71)与所述壳体(10)进行隔离。

9.根据权利要求8所述的气相外延室，其特征在于，所述隔热组件包括第一隔板组(83)，所述第一隔板组(83)与所述回气装置(60)、所述匀气装置(40)和所述第一加热装置(71)依次连接以围成所述生长室(20)；

其中，所述第一隔板组(83)与所述回气装置(60)间隔地设置。