[发明专利]一种基于模型的OPC修正方法在审

专利信息
申请号: 201910633249.9 申请日: 2019-07-15
公开(公告)号: CN110471251A 公开(公告)日: 2019-11-19
发明(设计)人: 高迎晖 申请(专利权)人: 苏州悦谱半导体有限公司
主分类号: G03F1/36 分类号: G03F1/36
代理公司: 32234 苏州广正知识产权代理有限公司 代理人: 朱春红<国际申请>=<国际公布>=<进入
地址: 215000 江苏省苏州市工业园区*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 线段 迭代 法向 设计原始数据 半导体电路 粒子群算法 随机初始化 光学模型 环境建立 计算模型 局部区域 软件修正 优化求解 光强 分段 判定 取出 修正 主流
【权利要求书】:

1.一种基于模型的OPC修正方法,其特征在于,使用OPC修正软件,包括以下具体步骤:

步骤1:读取光刻掩模gds文件,得到文件中所有polygon图形及其位置关系,对polygon图形进行唯一性识别编号;

步骤2:然后对每一个polygon图形进行分段,分成一个一个的线段,并对这些线段进行其所属polygon内的唯一性识别编号,此分段步骤有多种分段规则;

步骤3:确定每个线段的光强计算位置,即target点,此target点为线段的中心位置,同时用户根据实际情况修改,比如将其左移或右移一定的距离;

步骤4:根据光刻模型计算target点的光强值,然后将此线段往其法线方向向外移动一定的距离,并计算新位置的target点光强值,根据模型规则确定移动的方向是否正确,并往对的方向继续移动线段和计算光强值,直到所移动位置的光强值与模型要求光强值的误差在小于用户输入的允许误差时,此位置即为此次循环图形线段的新位置;

步骤5:进入下一段线段图形的新位置确定,直到完成所有线段的此次循环的新位置确定;

步骤6:确定完所有线段图形的新位置后,因图形及其周围图形有变动,会带来新的光强值和新的最优位置,所以开始新的线段位置确定的循环,此循环次数为4次,用户可根据实际情况修改此次数;

步骤7:经过一定次数的循环后,得到最终的修正后的光掩模图形。

2.根据权利要求1所述的基于模型的OPC修正方法,其特征在于,所述的步骤1中gds文件为flatten后的gds文件。

3.根据权利要求1所述的基于模型的OPC修正方法,其特征在于,所述的步骤2中多种分段规则包括根据附近图形的端点确定分段点、根据所属polygon的端点和用户输入的距离确定分段点、用户限定最短线段长度、用户限定不用分段的图形、识别line-end并指定其不用分段。

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