[发明专利]一种原子层沉积设备

权利要求书

1.一种原子层沉积设备，其特征在于，所述设备包括：真空反应室、载气瓶和前驱体源瓶；其中，

所述真空反应室包括沉积室和真空室，所述沉积室设于所述真空室的腔体内，且所述沉积室与所述真空室可拆卸连接；

所述载气瓶通过载气管路与所述沉积室连通，所述前驱体源瓶通过前驱体管路与所述沉积室连通；

所述沉积室开设有内腔真空抽气口，所述真空室开设有外腔真空抽气口，所述沉积室通过所述内腔真空抽气口与抽真空设备连接，所述真空室通过所述外腔真空抽气口与抽真空设备连接。

2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述设备还包括取样机械手，所述真空室和所述沉积室对应开设有侧壁进样口，对应所述侧壁进样口设置有滑轨，所述取样机械手与所述滑轨滑动连接，所述取样机械手设置有用于放置基片的基片支架。

3.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述真空室和所述沉积室对应开设有上进样口，所述真空室的上进样口匹配设置有上开门，所述上开门与所述真空室铰接连接。

4.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述设备还包括冷却水管路系统，所述冷却水管路系统的冷却水盘管设于所述真空室的外壁。

5.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述设备还包括基片加热器，所述沉积室内设置有用于放置基片的基片升降台，所述基片加热器设置在所述基片升降台的底部。

6.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述设备还包括外围加热器，所述外围加热器设置在所述真空室与所述沉积室之间的腔体内。

7.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述设备还包括加热套，所述前驱体源瓶的外壁和所述前驱体管路的外壁均设置有所述加热套。

8.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述前驱体源瓶的数量大于或者等于2，每一所述前驱体源瓶通过独立的前驱体管路与所述沉积室连通。

9.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述沉积室横截面的直径为400mm，所述沉积室的高度范围为150mm-180mm，所述真空室的长度为476mm，宽度为500mm，高为390mm。

10.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述设备还包括质量流量计、真空计和热电偶，所述质量流量计安装在所述载气管路上，所述真空计设于所述沉积室内，所述前驱体源瓶的外表面设有一所述热电偶，所述沉积室内设有一所述热电偶，所述前驱体管路上设有一所述热电偶。