[发明专利]一种高Q值微波介质陶瓷材料及其制备方法

权利要求书

1.一种高Q值微波介质陶瓷材料，其特征在于，包括陶瓷基料和Nb₂O₅添加剂，所述陶瓷基料的化学表达式为Ca_1+xSm_1-x-yNd_yAl_1-xTi_xO₄，其中，x、y均代表摩尔分数，且0＜x＜0.3，0＜y＜0.3，所述陶瓷基料与所述Nb₂O₅添加剂的质量比为1:0.01。

2.根据权利要求1所述的微波介质陶瓷材料，其特征在于：所述Nb₂O₅添加剂的纯度＞99.9％，粒度为0.5～2.0μm。

3.一种高Q值微波介质陶瓷材料的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

(1)按照化学式Ca_1+xSm_1-x-yNd_yAl_1-xTi_xO₄中各元素的摩尔比，其中0＜x＜0.3，0＜y＜0.3，混合CaCO₃、Sm₂O₃、Nd₂O₃、Al₂O₃、TiO₂进行配料，将混合物进行球磨，球磨后烘干、破碎、过筛，将过筛后的粉末进行煅烧，得到所述陶瓷基料粉体；

(2)按照所述陶瓷基料粉体和Nb₂O₅添加剂的质量比1:0.01配比，将得到的所述陶瓷基料粉体和所述Nb₂O₅添加剂粉体混合，进行二次球磨，然后烘干、造粒和过筛，经压制成型，最终烧结得所述微波介质陶瓷材料。

4.根据权利要求3所述的微波介质陶瓷材料的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，选择纯度大于99.9％的CaCO₃、Sm₂O₃、Nd₂O₃、Al₂O₃、TiO₂，CaCO₃的粒度约为1～2μm，Sm₂O₃的粒度约为1.5～3.0μm，Nd₂O₃的粒度约为1～2μm、Al₂O₃的粒度约为1.0～3.0μm，TiO₂的粒度约为0.5～1.5μm。

5.根据权利要求3或4所述的微波介质陶瓷材料的制备方法，其特征在于，步骤(2)中，进行所述二次球磨时控制所述粉体的粒度约在0.5-1.5μm范围。

6.根据权利要求3至4任一项所述的微波介质陶瓷材料的制备方法，其特征在于，在步骤(1)中，所述球磨的时间为3h～6h，所述烘干的温度为100℃～150℃，所述过筛为过30目筛，所述煅烧为在1250℃～1350℃下煅烧，保温3h～8h。

7.根据权利要求3至4任一项所述的微波介质陶瓷材料的制备方法，其特征在于，在步骤(2)中，所述二次球磨的时间为3h～6h，所述烘干的温度为100℃～150℃，所述过筛为双层筛，筛网目数为60目和120目，取60目筛下120目筛上粉体颗粒，所述烧结为在1400-1500℃下保温3-6h。

8.一种电子元器件，其特征在于，至少部分采用根据权利要求1至2任一项所述微波介质陶瓷材料制作。