[发明专利]基于碲化铋-石墨烯异质结的太赫兹探测器及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201910638572.5 申请日: 2019-07-16
公开(公告)号: CN110473935A 公开(公告)日: 2019-11-19
发明(设计)人: 金立川;张磊;贾侃成;张怀武;张岱南;魏苗清;文岐业 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: H01L31/112 分类号: H01L31/112;H01L31/18
代理公司: 51203 电子科技大学专利中心 代理人: 吴姗霖<国际申请>=<国际公布>=<进入
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 异质结 石墨烯 碲化铋 衬底 绝缘层 半导体 太赫兹波探测器 单层石墨烯 漏极 源极 吸收率 场效应管沟道 太赫兹探测器 光吸收率 有效解决 纳米片 频段 探测器 背栅 制备 保证
【说明书】:

一种基于碲化铋‑石墨烯异质结的太赫兹波探测器及其制备方法,属于太赫兹波探测器件技术领域。所述探测器包括半导体衬底,形成于半导体衬底之上的绝缘层,形成于绝缘层之上的由石墨烯和碲化铋层组成的异质结,位于异质结两端的源极和漏极,以及形成于半导体衬底背面的栅极。本发明采用石墨烯和碲化铋纳米片组成的异质结作为场效应管沟道,有效解决了单层石墨烯在太赫兹频段光吸收率低的问题,吸收率相较于单层石墨烯提高了20%以上;采用背栅以及先形成源极和漏极的方法,有效保证了石墨烯‑碲化铋异质结的完整性,提高了太赫兹探测器的性能。

技术领域

本发明属于太赫兹波探测器件技术领域,具体涉及一种基于碲化铋-石墨烯异质结的太赫兹波探测器及其制备方法。

背景技术

太赫兹波(THz)是频率为0.3THz-30THz的电磁波,位于红外波与毫米波之间。与其他波段的电磁波相比,太赫兹具有相干、低能、穿透力强等优异性能,在物理、化学、天文学、生命科学和医药科学等基础研究领域有重要的应用前景。而目前商用的太赫兹波探测器或是灵敏度低、等效噪声功率高,或是反应速度慢、探测频段范围窄,或是体积大、成本造价高。

太赫兹波探测在太赫兹应用领域中占有极其重要的地位。一些典型的太赫兹探测器包括基于热电效应的微测辐射热计、热释放探测器、等离子体波探测器、肖特基二极管以及量子阱探测器。其中基于热电效应的微测辐射热计及热释放探测器可以探测一定范围的太赫兹波,但却存在探测率低、响应速率慢、响应率低等系列问题;而基于光电效应的量子阱探测器需要复杂的制冷装置以保持低温工作;等离子波探测器是一种连续可调探测器,受激发的等离子波可与太赫兹波发生共振产生光电流从而探测太赫兹辐射。1996年,Dyakonov和Shur等(Plasma wave electronics:novel terahertz devices using twodimensional electron fluid)提出基于场效应晶体管的等离子波在沟道中被激发实现太赫兹波探测,在太赫兹波的辐射激发下,器件的沟道会产生一个由直流压降导致的光响应。

石墨烯是由单层碳原子精密堆积成二维蜂窝状晶格结构的碳质材料,其具有优异的机械、电学及光学性能。自2004年Novoselov和Geim团队用机械剥离法制备出室温存在的单层石墨烯以来,其已逐渐成为研究的热点。由于石墨烯很高的室温载流子迁移率及特殊的零禁带宽度结构,构建基于单层石墨烯场效应管作为太赫兹探测器,可以实现高速、宽频带太赫兹探测器,具有极大的应用前景。然而,石墨烯对太赫兹的吸收率低(通常为5%以下),这一问题极大的限制了石墨烯场效应管太赫兹探测器的性能,因此迫切需要提高该器件结构对太赫兹的吸收率。

发明内容

本发明的目的在于,针对背景技术存在的缺陷,提出一种结构简单、成本低廉的基于碲化铋-石墨烯异质结的太赫兹波探测器及其制备方法。

为实现上述目的,本发明采用的技术方案如下:

基于碲化铋-石墨烯异质结的太赫兹波探测器,其特征在于,包括半导体衬底4,形成于半导体衬底4之上的绝缘层5,形成于绝缘层5之上的由石墨烯2和碲化铋层1组成的异质结,位于异质结两端的源极6和漏极7,以及形成于半导体衬底背面的栅极3。

进一步地,所述石墨烯2和碲化铋层1界面接触,石墨烯2与源极6、漏极7欧姆接触。

进一步地,所述半导体衬底4为低电阻率的半导体衬底,具体为硅衬底、锗衬底或砷化镓衬底等。

进一步地,所述绝缘层5为二氧化硅、氧化铪、氮化硅或有机介质等,其厚度为10~300nm。

进一步地,所述石墨烯2和碲化铋层1组成的异质结的厚度为2~35nm。

进一步地,所述石墨烯2的厚度为1~5nm,可以为单层石墨烯或多层石墨烯;所述碲化铋层1的厚度为1~30nm。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于电子科技大学,未经电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910638572.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top