[发明专利]以二次谐波为读写方式的多级相变存储器及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201910638968.X 申请日: 2019-07-16
公开(公告)号: CN110459243B 公开(公告)日: 2021-02-02
发明(设计)人: 孟云;江明辉;王阳;魏劲松 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: G11B7/243 分类号: G11B7/243;G11B7/24035;G11B7/26;G11B7/0045;G11B7/005
代理公司: 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 代理人: 张宁展
地址: 201800 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 二次 谐波 读写 方式 多级 相变 存储器 及其 制备 方法
【说明书】:

发明提供了一种以二次谐波为读写方式的多级相变存储器,包括非晶态的相变记录层,通过调节记录光作用于相变记录层的偏振方向,在相变记录层上形成不同晶粒取向的晶态记录点,利用探测光照射不同晶粒取向的晶态记录点,得到不同信号强度的二次谐波,从而完成数据读写。同时提供了一种以二次谐波为读写方式的多级相变存储器的制备方法。本发明以二次谐波为读出信号,能够达到多级存储的效果;通过调节记录光的不同偏振方向,使读出光二次谐波的强度不同,从而达到多级存储的目的;本发明既保存了传统相变存储器读出速度快、可擦写性好的特点;同时,由于其读出方式不是反射率,存储器中不需要反射层,其结构更为简单。

技术领域

本发明涉及光存储技术领域的一种利用相变材料进行多级存储的技术,具体地,涉及一种以二次谐波为读写方式的多级相变存储器及其制备方法。

背景技术

二次谐波(SHG)是研究材料表面、界面的有力工具,探测装置简便,信号灵敏度高。作为激光激发相干光学过程,表面二次谐波具有很高的方向性,适合进行无损-原位探测,也可以用来对金属、半导体、液体等进行表面、界面监测。因具有很高的空间、光谱分辨率,表面二次谐波可以用来成像。在超短脉冲的帮助下,表面二次谐波可以用来对表面应变动力学,载流子动力学,表面吸附动力学等进行研究,可以达到很高的时间分辨率

近年来,人们对硫系半导体、硫系玻璃等硫系材料的研究热度越来越高。因为这些材料经常用在先进的光电器件中,比如异质结双向晶体管、光电探测器、LED、激光二极管等。在集成光学、纳米电子学、光电调制等领域也有重要应用。硫族元素可以与金属或非金属元素,如As、Ge、Ga、In等相结合,形成具有相变功能的玻璃或半导体,该类材料通常具有较强的二阶光学非线性,是光电子器件应用中应该重点考虑的因素。

相变材料在发生相态转换时,晶体的结构发生改变,这种变化可以是结构从无序到有序,也可以是从一种晶体类型转变成另一种晶体类型。相变过程将影响结构的对称性,使二阶非线性系数发生改变。因此,二次谐波可以用来探测硫系相变材料表层的不对称结构,监视原位相变。

二次谐波作为激光激发相干光学过程,具有很高的方向性,灵敏度,适合进行无损-原位探测。二次谐波能反映材料的结构信息,对晶体的各向异性,材料表面结构纹理十分敏感。二次谐波的强度随入射光偏振角度的变化与材料结晶过程中晶粒的取向有关,而晶粒的取向与泵浦光的偏振有关。因此利用二次谐波可以研究入射光偏振对相变材料晶化的影响,在存储中加入偏振信息,实现多维存储。

现有的多级相变存储器通常存在如下缺陷:

1.制备工艺复杂。其制备工艺包括曝光、刻蚀、上下电极制备等;

2.只能实现电脉冲信号的读写,而不能实现无损光脉冲信号读写;

3.存储器结构复杂,需加入保护层进行防氧化保护。

目前还没有以二次谐波为读写方式的多级相变存储器,也没有发现同本发明类似技术的说明或报道。

发明内容

针对现有技术中存在的上述不足,本发明的目的是提供一种以二次谐波为读写方式的多级相变存储器及其制备方法,该多级相变存储器拥有全新读写方式,在记录数据时,调节记录光的偏振方向形成不同的晶态记录点,从而读出的二次谐波具有不同强度,达到多级存储的目的。本发明所提供的多级相变存储器,既具有传统存储器读写速度快、可擦写性好的特点,同时因其不是反射率读出,结构中不需要加入反射层,具有结构简单、信噪比高的优点。

本发明是通过以下技术方案实现的。

根据本发明的一个方面,提供了一种以二次谐波为读写方式的多级相变存储器,包括非晶态的相变记录层,通过调节记录光作用于相变记录层的偏振方向,在相变记录层上形成不同晶粒取向的晶态记录点,利用探测光照射不同晶粒取向的晶态记录点,得到不同信号强度的二次谐波,从而完成数据读写。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海光学精密机械研究所,未经中国科学院上海光学精密机械研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910638968.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top