[发明专利]一类嘧啶喹啉衍生物及其制备方法和应用

权利要求书

1.一类嘧啶喹啉衍生物，其特征在于，所述嘧啶喹啉衍生物的结构如式(I)所示：

其中，R₁为氢、C_1～4烷基、C_1～4卤代烷基、苄基、取代苄基、C_4～7杂环芳基、C_4～7取代杂环芳基、糖基或氨基酸；

R₂、R₃、R₄和R₅各自独立地为氢、卤素、C_1～4烷基、C_1～4烷氧基、羟基、氨基、取代氨基、C_1～4卤代烷基、糖基或氨基酸；

R₆为取代或非取代五元杂环、取代或非取代六元杂环、取代或非取代的C_8～12稠和杂环；

其中所述取代苄基、C_4～7取代杂环芳基、取代氨基、取代五元杂环、取代六元杂环和取代的C_8～12稠和杂环中的取代基分别为羟基、C_1～4烷基、C_1～4烷氧基、C_1～4卤代烷基或卤素；

其中的杂环为含有N、O或S的环。

2.根据权利要求1所述嘧啶喹啉衍生物，其特征在于，所述R₁为氢、C_1～2烷基、C_1～2卤代烷基、苄基、取代苄基、糖基或氨基酸；

R₂、R₃、R₄和R₅各自独立地为氢、卤素、C_1～2烷基、C_1～2烷氧基、C_1～2卤代烷基、羟基、氨基、取代氨基、糖基或氨基酸；

R₆为吡咯环、取代或非取代苯并咪唑环、取代或非取代吡啶环、取代或非取代嘧啶环、取代或非取代喹唑啉；

其中取代苄基、取代氨基、取代吡啶环、取代苯并咪唑环、取代嘧啶环和取代喹唑啉中的取代基分别为羟基、C_1～2烷基、C_1～2烷氧基、C_1～2卤代烷基或卤素。

3.根据权利要求2所述嘧啶喹啉衍生物，其特征在于，所述R₁为氢、甲基、乙基、氟甲基、三氟甲基、三氟乙基、苄基、2-甲基苄基、3-甲基苄基、4-甲基苄基、2-三氟甲基苄基、3-三氟甲基苄基、4-三氟甲基苄基、2-甲氧基苄基、3-甲氧基苄基或4-甲氧基苄基。

4.根据权利要求2所述嘧啶喹啉衍生物，其特征在于，当R₆为吡咯环时，所述嘧啶喹啉衍生物的结构如式(Ⅱ)所示：

当R₆为取代或非取代苯并咪唑环时，所述嘧啶喹啉衍生物的结构如式(Ⅲ)所示：

R₇为氢、C_1～2烷基、C_1～2烷氧基、C_1～2卤代烷基或卤素；

当R₆为取代或非取代吡啶环时，所述嘧啶喹啉衍生物的结构如式(Ⅳ)所示：

R₈为氢、C_1～2烷基、C_1～2烷氧基、C_1～2卤代烷基或卤素；

当R₆为取代或非取代嘧啶环时，所述嘧啶喹啉衍生物的结构如式(Ⅴ-1)～(Ⅴ-3)所示：

R₉为氢、C_1～2烷基、C_1～2烷氧基、C_1～2卤代烷基或卤素；

当R₆为取代或非取代喹唑啉时，所述嘧啶喹啉衍生物的结构如式(Ⅵ)所示：

R₁₀为氢、C_1～2烷基、C_1～2烷氧基、C_1～2卤代烷基或卤素。