[发明专利]一种珐琅纳米抗菌水槽及其生产工艺

权利要求书

1.一种珐琅纳米抗菌水槽，其特征在于，包括水槽主体、排水件以及过滤件，所述排水件设置于水槽主体底部，所述过滤件设置于排水件内，所述水槽主体表面设置一层复合珐琅瓷釉膜层，且其包括主体部以及平台部，所述平台部设置于主体部的上端边缘，所述平台部包括与主体部连接的第一平台以及第二平台，所述第一平台与第二平台之间设置过渡倾斜面，所述过渡倾斜面与第一平台之间的夹角为115-150°。

2.根据权利要求1所述的一种珐琅纳米抗菌水槽，其特征在于，所述主体部底部设置快速排水结构，所述快速排水结构包括水平部以及设置于水平部两边的倾斜部。

3.根据权利要求2所述的一种珐琅纳米抗菌水槽，其特征在于，所述倾斜部与水平部之间的夹角为175-178°。

4.根据权利要求2所述的一种珐琅纳米抗菌水槽，其特征在于，所述水平部的底部中心位置设置与排水件配合的阶梯孔，所述阶梯孔的内径从上到下依次减小；所述第一平台上设置用于穿过水龙头的通孔及皂液器的通孔，且数量各一个。

5.一种珐琅纳米抗菌水槽生产工艺，用于对水槽主体的表面进行处理，其特征在于，依次包括以下步骤：加工成型，喷砂处理，清洗处理，喷涂珐琅纳米抗菌无机材料，低温固化以及高温固化，其中，

所述加工成型，利用冷轧钢带拉伸或焊接成型出所需要的水槽主体的外形；

所述喷砂处理，通过自动喷砂机对水槽主体表面进行喷砂处理；

所述清洗处理，通过自动清洗线将水槽主体表面彻底处理干净，并进行烘干处理；

所述喷涂珐琅纳米抗菌无机材料，在无尘工作室内，采用静电喷涂设备将珐琅纳米抗菌无机材料均匀喷涂在水槽主体的表面上，形成纳米复合瓷釉层；

所述低温固化，将喷涂完成的水槽主体送至固化炉的低温区，并控制低温区的温度在100-200摄氏度之间，让水槽主体通过低温区的时间控制在8-10分钟；

所述高温固化，水槽经过低温区后，送至固化炉的高温区，并控制高温区的温度在820-900摄氏度，让水槽主体在高温区内保温6-8分钟，并形成复合珐琅瓷釉膜层。

6.根据权利要求5所述的一种珐琅纳米抗菌水槽生产工艺，其特征在于，所述清洗处理具体的包括以下步骤：除锈、除尘、钝化、清洗、烘干；所述除锈、除尘、钝化、清洗以及烘干通过自动清洗线依次处理，且烘干温度为130摄氏度，将水槽主体表面水分彻底烘干。

7.根据权利要求5所述的一种珐琅纳米抗菌水槽生产工艺，其特征在于，所述珐琅纳米抗菌无机材料包括：纳米粒子、AB-L2水性复合抗菌剂以及传统搪瓷釉，所述纳米粒子占总量的2-10％。

8.根据权利要求7所述的一种珐琅纳米抗菌水槽生产工艺，其特征在于，所述纳米粒子包括纳米三氧化二铝、纳米二氧化硅、纳米二氧化锆以及纳米二氧化钛。

9.根据权利要求7所述的一种珐琅纳米抗菌水槽生产工艺，其特征在于，所述传统搪瓷釉有硅酸盐、氧化硼、色粉、氧化铝和碱金属氧化物合成。

10.根据权利要求5所述的一种珐琅纳米抗菌水槽生产工艺，其特征在于，所述复合珐琅瓷釉膜层的厚度为150-200nm。