[发明专利]滤光片基板及形成方法、液晶显示器及形成方法

权利要求书

1.一种滤光片基板，其特征在于，包括：

基板，所述基板包括透光区和遮光区，所述遮光区表面具有遮光层；

位于所述基板透光区上及部分遮光层上的滤光结构，所述滤光结构包括相对的第一面和第二面，且所述第一面朝向所述基板表面；

电极结构，所述电极结构包括沿垂直于基板表面方向重叠的第一电极层和第二电极层，所述电极结构位于所述滤光结构第一面和基板之间、或者位于所述滤光结构第二面上。

2.如权利要求1所述的滤光片基板，其特征在于，所述第一电极层对于380nm～480nm波段光波的透过率大于90％；所述第二电极层对于380nm～480nm波段光波的透过率大于90％。

3.如权利要求2所述的滤光片基板，其特征在于，所述第一电极层的材料包括金属氧化物；所述第二电极层的材料包括金属氧化物。

4.如权利要求3所述的滤光片基板，其特征在于，所述第一电极层的材料包括氧化铟锡、掺氟氧化锡或掺铝氧化锌；所述第二电极层的材料包括氧化铟锡、掺氟氧化锡或掺铝氧化锌。

5.如权利要求1所述的滤光片基板，其特征在于，所述电极结构的厚度范围为1100埃～1600埃。

6.如权利要求5所述的滤光片基板，其特征在于，所述第一电极层的厚度为所述电极结构的厚度的40％～60％。

7.如权利要求5所述的滤光片基板，其特征在于，所述第二电极层的厚度为所述电极结构的厚度的40％～60％。

8.如权利要求1所述的滤光片基板，其特征在于，所述基板包括多个像素区，每个所述像素区包括多个所述透光区；所述遮光区位于相邻透光区之间。

9.如权利要求8所述的滤光片基板，其特征在于，所述滤光结构包括若干滤光层，且每个所述透光区上具有一个所述滤光层；所述滤光层为红色滤光层、绿色滤光层或蓝色滤光层。

10.如权利要求8所述的滤光片基板，其特征在于，每个所述像素区包括3个～4个透光区；每个所述像素区上具有至少一个红色滤光层、至少一个绿色滤光层以及至少一个蓝色滤光层。

11.如权利要求1所述的滤光片基板，其特征在于，还包括：间隔柱，当所述电极结构位于所述滤光结构第一面和基板之间时，所述间隔柱位于所述遮光区上的滤光结构第二面表面；当所述电极结构位于所述滤光结构第二面上时，所述间隔柱位于所述遮光区上的电极结构表面。

12.一种形成如权利要求1至11任一项滤光片基板的方法，其特征在于，包括：

提供基板，所述基板包括透光区和遮光区，所述遮光区表面具有遮光层；

在所述基板透光区上及部分遮光层上形成滤光结构，所述滤光结构包括相对的第一面和第二面，所述第一面朝向所述基板表面；

在形成所述滤光结构之前，在所述基板表面和所述滤光结构第一面之间形成电极结构；或者，在所述滤光结构第二面上形成电极结构，所述电极结构包括沿垂直于基板表面方向重叠的第一电极层和第二电极层。

13.如权利要求12所述的滤光片基板的形成方法，其特征在于，所述第一电极层的形成工艺包括沉积工艺或涂覆工艺；所述第二电极层的形成工艺包括沉积工艺或涂覆工艺。

14.如权利要求12所述的滤光片基板的形成方法，其特征在于，当所述基板包括多个像素区，每个所述像素区包括多个所述透光区，所述滤光结构包括若干滤光层，每个所述透光区上具有一个所述滤光层，每个所述滤光层的形成工艺包括曝光显影工艺。