[发明专利]一种阵列微棱镜结构的制作方法

权利要求书

1.一种阵列微棱镜结构的制作方法，其特征在于，所述阵列微棱镜结构中，构成阵列的每一个微棱镜单元均相同，所述微棱镜单元的结构由底边长度L和斜边与底边所夹角度a来表示，所述空气的折射率和阵列微棱镜材料的折射率分别用n₁和n₂表示，经过阵列微棱镜的光线以角度b进入人眼，所述角度b是指光线与y轴的夹角；

所述角度a和角度b满足公式(1)：

所述角度b的取值范围是0.1°至6°；

所述底边长度L的取值满足公式(2)：

e^{-α·L tan a}＞85％ (2)

公式(2)中α代表阵列微透镜材料的吸收系数；

1)根据阵列微棱镜结构的参数，制作光刻掩模版备用；

2)在清洁后硅片上涂覆光刻胶；

3)对步骤2)涂覆好的光刻胶进行加热固化；

4)对步骤3)固化后的光刻胶进行曝光，使用步骤1)的光刻掩模版，曝光过程中控制曝光量呈周期性地由大变小，与此同时控制涂覆了光刻胶的硅片匀速平移，平移长度达到阵列微棱镜结构中一个单元的底边长度L时，恰好完成曝光量由大变小的一个周期，然后开始曝光量由大变小的第二个周期，依次类推；曝光量周期变化时，涂敷了光刻胶的硅片始终保持匀速平移运动，直到完成阵列微棱镜结构中最后一个单元的曝光；

5)对经步骤4)曝光的样片进行显影、第二次加热固化；

6)对经步骤5)处理的样片镀膜，镀膜厚度10微米至100微米；

7)对经步骤6)处理的样片进行电铸，电铸厚度1毫米至3毫米；

8)将经步骤7)处理的样片放入光刻胶去胶剂中，去除光刻胶，完成阵列微棱镜结构模板的制作。

9)使用步骤(8)中制作的阵列微棱镜结构模板，制作出阵列微棱镜结构。

2.如权利要求1所述的一种阵列微棱镜结构的制作方法，其特征在于，所述步骤2)中，所述光刻胶为SU-8光刻胶或聚酰亚胺光刻胶。

3.如权利要求1或2所述的一种阵列微棱镜结构的制作方法，其特征在于，所述步骤6)中，镀膜材料为银或铜。

4.如权利要求1或2所述的一种阵列微棱镜结构的制作方法，其特征在于，所述步骤7)中，电铸材料为镍或铝。

5.如权利要求1或2所述的一种阵列微棱镜结构的制作方法，其特征在于，所述步骤9)中，采用热压或者注塑的方法制作出阵列微棱镜结构。

6.如权利要求1或2所述的一种阵列微棱镜结构的制作方法，其特征在于，所述步骤9)中，所述阵列微棱镜的材料为聚甲基丙烯酸甲酯或聚碳酸酯。