[发明专利]虚拟量测方法和虚拟量测装置

权利要求书

1.一种虚拟量测方法，用于预测膜层厚度，其特征在于，所述虚拟量测方法包括：

获取所述膜层对应的制程参数以及制程时间；

根据参数速率关系，以及所述制程参数，确定所述制程参数对应的成膜速率；

根据所述制程时间、以及所述成膜速率，确定所述膜层的厚度。

2.如权利要求1所述的虚拟量测方法，其特征在于，所述根据所述制程时间、以及所述成膜速率，确定所述膜层的厚度的步骤包括：

根据第一子膜层的成膜速率和对应的制程时间确定第一子膜层的厚度；

根据第二子膜层的成膜速率和对应的制程时间确定第二子膜层的厚度；

根据所述第一子膜层的厚度和所述第二子膜层的厚度确定膜层的厚度。

3.如权利要求1所述的虚拟量测方法，其特征在于，所述制程参数包括温度、气体环境中的至少一种。

4.如权利要求1所述的虚拟量测方法，其特征在于，所述根据参数速率关系，以及所述制程参数，确定所述制程参数对应的成膜速率的步骤包括：

调用膜层对应的部分制程参数；

取所述对应膜层的部分制程参数的平均值作为横坐标，取与所述对应膜层的部分制程参数对应的膜层的成膜速率的平均值作为纵坐标，建立参数速率关系；

调用所述参数速率关系。

5.如权利要求4所述的虚拟量测方法，其特征在于，所述调用膜层对应的部分制程参数步骤包括：

获取制备所述膜层的目标机台的工作参数；

取所述工作参数中的部分参数或者所有参数作为对应所述膜层的制程参数；

提供所述工作参数中的部分参数或者所有参数。

6.一种虚拟量测装置，其特征在于，包括：

机台数据模块，用于提供膜层对应的制程参数；

模型调用模块，用于调用所述参数速率关系；

运行模块，用于根据所述参数速率关系和所述制程参数确定所述膜层的成膜速率；

时间记录模块，用于提供所述膜层对应的制程时间；

数据处理模块，用于根据所述制程时间和所述成膜速率确定所述膜层的厚度。

7.如权利要求6所述的虚拟量测装置，其特征在于，所述数据处理模块包括：

第一子数据处理模块，用于根据第一子膜层的成膜速率和对应的制程时间确定第一子膜层的厚度；

第二子数据处理模块，用于根据第二子膜层的成膜速率和对应的制程时间确定第二子膜层的厚度；

第三子数据处理模块，用于根据所述第一子膜层的厚度和所述第二子膜层的厚度确定膜层的厚度。

8.如权利要求6所述的虚拟量测装置，其特征在于，所述机台数据模块中的数据包括温度、气体环境。

9.如权利要求6所述的虚拟量测装置，其特征在于，所述模型调用模块包括：

数据调用模块，用于调用膜层对应的部分制程参数；

模型建立模块，用于取所述对应膜层的部分制程参数的平均值作为横坐标，取与所述对应膜层的部分制程参数对应的膜层的成膜速率的平均值作为纵坐标，建立参数速率关系；

子调用模块，调用所述参数速率关系。

10.如权利要求9所述的虚拟量测装置，其特征在于，所述数据调用模块包括：

数据采集模块，用于制备所述膜层的目标机台的工作参数；

数据筛选模块，用于取所述工作参数中的部分参数或者所有参数作为机台的制程参数；

数据提供模块，用于提供所述工作参数中的部分参数或者所有参数。