[发明专利]一种光刻机的挡光板装置

说明书

本发明涉及集成电路生产设备技术领域，具体公开了一种光刻机的挡光板装置，包括两块前挡光板，前挡光板上端前后两侧分别通过一第一滑块与一第二滑块和对应的一上导轨连接，上导轨内设有一滚珠丝杠，前挡光板下方对应设有两块后挡光板，且后挡光板下端左右两侧分别通过一第一滑块与一第二滑块和对应的一下导轨连接，下导轨内设有一滚珠丝杠。本发明通过上导轨内的滚珠丝杠来带动前挡光板在水平方向进行左右移动，同时通过下导轨内的滚珠丝杠来带动后挡光板在水平方向进行前后移动，进而通过后挡光板与前挡光板的配合使用来构成一个透光口，结构简单，解决了现有的光刻机的挡光板装置结构较为复杂且空间占用率较高的问题。

技术领域

本发明涉及集成电路生产设备技术领域，具体是一种光刻机的挡光板装置。

背景技术

光刻机（Mask Aligner)又叫掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等，作为半导体集成电路制造中经常使用的一种设备（即生产大规模集成电路的核心设备），它一般是利用紫外线通过模版去除晶圆表面的保护膜，进而方便后续通过纯水洗净残留在晶圆表面的杂质来生产集成电路（生产集成电路的简要步骤一般包括以下三个步骤：利用模版去除晶圆表面的保护膜；将晶圆浸泡在腐化剂中，失去保护膜的部分被腐蚀掉后形成电路；用纯水洗净残留在晶圆表面的杂质）。

但是，现有的光刻机光路系统中的挡光板一般有四块板，且为依次前后竖直排列，上述的技术方案在实际使用时还存在以下不足：现有的光刻机的挡光板装置大都结构较为复杂，且空间占用率较高。因此，设计一种光刻机的挡光板装置，成为目前亟需解决的问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种光刻机的挡光板装置，以解决上述背景技术中提出的现有的光刻机的挡光板装置结构较为复杂且空间占用率较高的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：

一种光刻机的挡光板装置，包括平行设置的两块前挡光板，所述前挡光板上端前后两侧分别通过一第一滑块与一第二滑块和对应的一上导轨连接，所述上导轨内设有用于驱动所述前挡光板左右移动的一滚珠丝杠，所述前挡光板下方对应设有两块后挡光板，且所述后挡光板下端左右两侧分别通过一第一滑块与一第二滑块和对应的一下导轨连接，所述下导轨内设有用于驱动所述后挡光板前后移动的一滚珠丝杠；通过两个上导轨内的对应的滚珠丝杠来带动前挡光板在水平方向进行左右移动，同时通过两个下导轨内的对应的滚珠丝杠来带动后挡光板在水平方向进行前后移动，进而可以通过相互垂直设置的后挡光板与前挡光板的配合使用来构成一个透光口，结构简单，在保证挡光板装置正常工作的同时有效提高了空间利用率。

作为本发明进一步的方案：所述第一滑块上对应设有用于与所述滚珠丝杠配合的螺纹。

作为本发明再进一步的方案：所述前挡光板和后挡光板均通过多个内六角螺钉与对应的第一滑块与第二滑块进行固定连接。

作为本发明再进一步的方案：所述滚珠丝杠端部设有用于安装电机的轴承座，且所述轴承座通过多个内六角螺钉固定在对应的上导轨或下导轨上。

作为本发明再进一步的方案：所述上导轨内部和下导轨内部均设有用于安装滚珠丝杠的通孔，且所述通孔的直径大小大于所述滚珠丝杠的直径大小。

作为本发明再进一步的方案：所述前挡光板和后挡光板的间距为5-15mm。

作为本发明再进一步的方案：所述前挡光板和后挡光板的间距为10mm。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：