[发明专利]用于降噪的装置和岩钻机在审
申请号: | 201910654031.1 | 申请日: | 2019-07-19 |
公开(公告)号: | CN110847812A | 公开(公告)日: | 2020-02-28 |
发明(设计)人: | 拉西·罗马;桑普·希瓦拉 | 申请(专利权)人: | 山特维克矿山工程机械有限公司 |
主分类号: | E21B7/02 | 分类号: | E21B7/02;E21B19/08;E21B15/00;G10K11/162 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 蔡石蒙;车文 |
地址: | 芬兰*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 装置 钻机 | ||
1.一种用于抑制岩钻单元(4)的噪声的装置(12),其中,所述装置(12)包括:
蒙皮结构(14),所述蒙皮结构被构造成形成用于至少部分地接纳所述岩钻单元(4)的空间;以及
框架(20),所述框架用于将所述蒙皮结构(14)紧固到所述岩钻单元(4)的进给梁(5);
其中
所述框架(20)和所述蒙皮结构(14)是分开的元件;以及
所述蒙皮结构(14)包括若干分开的降噪面板(13),所述若干分开的降噪面板以可拆除的方式紧固到所述框架(20),由此每个面板(13)能够单独地安装和拆卸;
其特征在于,
所述框架(20)包括支架,所述支架由金属杆条或管件形成;
所述支架包括彼此连接的至少两个平行的纵向杆条(21a、21b)以及若干横向支承件(22);并且
所述支架设置有若干紧固点,用于将所述面板(13)机械地紧固到所述支架。
2.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,
所述框架(20)是一个单个整体,所述单个整体从所述装置(12)的前端部(F)纵向地延伸到后端部(R)。
3.根据权利要求1或2所述的装置,其特征在于,
所述蒙皮结构(14)包括至少三个分开的面板(13a至13j)。
4.根据前述权利要求1至3中任一项所述的装置,其特征在于,
所述蒙皮结构(14)包括:至少两个接连的侧面板(13a、13b、13g至13j),所述至少两个接连的侧面板处在所述蒙皮结构(14)的两个纵向侧上;至少一个前面板(13e),所述至少一个前面板处在前端部(F)处;以及至少一个后面板(13f1、13f2),所述至少一个后面板处在所述蒙皮结构(14)的后端部(R)处;并且进一步包括至少两个接连的顶面板(13a、13b),所述至少两个接连的顶面板处在所述蒙皮结构(14)的纵向顶侧上。
5.根据前述权利要求1至4中任一项所述的装置,其特征在于,
所述蒙皮结构(14)包括至少一个面板,所述至少一个面板通过铰链(17)安装到所述框架(20)。
6.根据前述权利要求1至5中任一项所述的装置,其特征在于,
至少一个后面板(13f1、13f2)处在所述蒙皮结构(14)的后部(R)处,所述至少一个后面板设置有开口(23),以允许所产生的噪声通过所述开口(23)扩散到由所述蒙皮结构(14)限制的所述空间外。
7.根据前述权利要求1至6中任一项所述的装置,其特征在于,
所述面板(13)通过机械紧固元件(16)紧固到所述框架(20)。
8.根据前述权利要求1至7中任一项所述的装置,其特征在于,
每个所述面板(13)包括外层(27)和至少一个附加层(28、29),所述至少一个附加层连接在所述外层(27)的内侧上;并且
所述外层(27)由不透气材料制成,并且所述至少一个附加层(28、29)包括降噪材料。
9.根据前述权利要求1至8中任一项所述的装置,其特征在于,
所述降噪面板(13)的至少一部分包括三个叠加层,即外层(27)和内层(29)以及中间层(28);并且
所述外层(27)由金属片材形成,所述内层(29)包括轻质吸音元件(AE),并且所述中间层(28)包括阻尼质块(DA),所述阻尼质块直接施加在所述外层(27)的内表面侧上。
10.根据前述权利要求1至9中任一项所述的装置,其特征在于,
所述装置(12)设置有预先设计的替代系统,其中至少一些所述降噪板(13)能够改换成具有对应尺寸和紧固装置的板(24),但所述板具有带有若干通孔(25)的格珊状构造,由此,所述装置(12)能从所述降噪装置改换为保护罩,而无需对所述框架(20)进行任何改变。
11.一种岩钻机(1),所述岩钻机包括:
可移动载架(2);
至少一个钻探吊臂(3);
钻探单元(4),所述钻探单元处在所述钻探吊臂(3)的远侧端部处,其中所述钻探单元(4)包括进给梁(5)和岩钻机器(6),所述岩钻机器能够移动地支承在所述进给梁(5)上;和
降噪装置(12),所述降噪装置包括蒙皮结构(14)和框架(20),所述蒙皮结构至少部分地包围所述钻探单元(4),所述框架用于将所述装置(14)支承到所述钻探单元(4);
其特征在于,
所述降噪装置(14)是根据前述权利要求1至10中公开的所述装置。
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