[发明专利]一种足底压力测量鞋垫适用鞋和足部形态检测方法

权利要求书

1.一种足底压力测量鞋垫适用鞋，其特征在于：

所述足底压力测量鞋垫适用鞋的前部设置第一魔术贴(1)，足跟部设置第二魔术贴(2)；

所述足部压力测量鞋垫适用鞋内设置足底压力测量鞋垫(3)；

其中，所述第一魔术贴(1)被配置为打开时使人体足趾前端暴露在外；

所述第二魔术贴(2)被配置为打开时使人体足跟暴露在外。

2.根据权利要求1所述的足底压力测量鞋垫适用鞋，其特征在于，所述足底压力测量鞋垫适用鞋的内部尺寸与所述足底压力测量鞋垫(3)的尺寸相配合。

3.一种基于足底压力测量鞋垫适用鞋的足部形态检测方法，其特征在于，所述足底压力测量鞋垫适用鞋的前部设置第一魔术贴(1)，足跟部设置第二魔术贴(2)；所述足部压力测量鞋垫适用鞋内设置足底压力测量鞋垫(3)；其中，所述第一魔术贴(1)打开时能够使人体足趾前端暴露在外；所述第二魔术贴(2)打开时能够使人体足跟暴露在外；

所述方法包括：

受试者穿戴所述足底压力测量鞋垫适用鞋；

打开第一魔术贴(1)和第二魔术贴(2)，暴露受试者足趾和足跟；

按压足底压力测量鞋垫(3)上对应第二趾和足跟尖的位置，在足底压力测量鞋垫(3)的对应系统上记录所出现的两个压力点；

根据所述两个压力点确定受试者的第一足部参考数据；

采集受试者足部压力数据；

根据足部压力数据和第一足部参考数据确定受试者的足部形态。

4.根据权利要求3所述的足部形态检测方法，其特征在于，所述第一足部参考数据为所述两个压力点的连线。

5.根据权利要求3所述的足部形态检测方法，其特征在于，所述根据足部压力数据和第一足部参考数据确定受试者足部形态的方法具体为根据所述足部压力数据和所述第一足部参考数据进行足底压力中心轨迹分析的方法。