[发明专利]渐变叠层TCO导电膜的异质结电池结构及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201910658588.2 申请日: 2019-07-22
公开(公告)号: CN110310999A 公开(公告)日: 2019-10-08
发明(设计)人: 郭小勇;易治凯;王永谦 申请(专利权)人: 江苏爱康能源研究院有限公司
主分类号: H01L31/0224 分类号: H01L31/0224;H01L31/0747;H01L31/18;H01L31/20;C23C14/08;C23C14/35
代理公司: 江阴市扬子专利代理事务所(普通合伙) 32309 代理人: 隋玲玲
地址: 215600 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 导电膜 叠层 掺杂层 非晶硅 硅衬底 非晶硅本征层 异质结电池 渐变 单层 受光 制备 异质结太阳能电池 非晶硅薄膜 电学性能 高能粒子 第一层 电极 靶材 靶位 多层 氧气 损伤
【说明书】:

发明涉及的一种渐变叠层TCO导电膜的异质结电池结构及其制备方法,它包括硅衬底,所述硅衬底的双面均设有非晶硅本征层,所述非晶硅本征层的外侧设有非晶硅掺杂层;所述硅衬底受光面的非晶硅掺杂层的外侧设有叠层TCO导电膜,所述硅衬底非受光面的非晶硅掺杂层的外侧设有单层TCO导电膜;所述叠层TCO导电膜和单层TCO导电膜的外侧均设有若干Ag电极;所述叠层TCO导电膜包括依次向外设置的多层TCO导电膜,每一层的靶材功率密度逐层增加,靠近非晶硅掺杂层的第一层靶位TCO导电膜不通氧气,其他每一层的O2/功率逐层增加。本发明低高能粒子对非晶硅薄膜的撞击损伤,能够获得最优的TCO光学、电学性能,提升异质结太阳能电池性能。

技术领域

本发明涉及光伏高效电池技术领域,尤其涉及一种渐变叠层TCO导电膜的异质结电池结构及其制备方法。

背景技术

随着光伏技术的快速发展,晶体硅太阳电池的转换效率逐年提高。在当前光伏工业界,单晶硅太阳电池的转换效率已达到20%以上,多晶硅太阳电池的转换效率已达18.5%以上。然而大规模生产的、转换效率达22.5%以上的硅基太阳电池仅美国SunPower公司的背接触太阳电池(Interdigitated Back Contact,IBC)和日本松下公司的带本征薄层的非晶硅/晶体硅异质结太阳电池(Hetero-junction with Intrinsic Thin layer,HJT)。和IBC太阳电池相比,HJT电池具有能耗少、工艺流程简单、温度系数小等诸多优点,这些也是HJT太阳能电池能从众多高效硅基太阳电池方案中脱颖而出的原因。

当前,我国正在大力推广分布式太阳能光伏发电,由于屋顶资源有限,而且分布式光伏发电需求高转换效率的太阳电池组件,正是由于HJT太阳电池具有高效、双面发电的优势,在分布式光伏电站中表现出广阔的应用前景。

如图1所示,为现有技术的HJT电池片的电极结构,现有HJT电池TCO的制备方法直接采用多靶同气体流量、同功率制备,整个TCO薄膜性质都是一样的。TCO薄膜主要作用是在传输载流子、减反射和保护非晶硅膜层。这种方式存在以下两个缺陷:(1)为了满足产能,在刚开始制备TCO导电膜时,采用高功率、高能量粒子轰击非晶硅薄膜,会严重损伤非晶硅薄膜;(2)TCO导电膜的透过与导电是相矛盾的,采用同功率同气体流量无法同时获得高透过率和高导电率,从而影响HJT太阳能电池的光电性能。

发明内容

本发明的目的在于克服上述不足,提供一种渐变叠层TCO导电膜的异质结电池结构及其制备方法,降低对非晶硅薄膜的撞击损伤,获得最优的TCO光学、电学性能,提升异质结太阳能电池性能。

本发明的目的是这样实现的:

一种渐变叠层TCO导电膜的异质结电池结构,它包括硅衬底,所述硅衬底的双面均设有非晶硅本征层,所述非晶硅本征层的外侧设有非晶硅掺杂层;所述硅衬底受光面的非晶硅掺杂层的外侧设有叠层TCO导电膜,所述硅衬底非受光面的非晶硅掺杂层的外侧设有单层TCO导电膜;所述叠层TCO导电膜和单层TCO导电膜的外侧均设有若干Ag电极;所述叠层TCO导电膜包括依次向外设置的多层TCO导电膜,每一层的靶材功率密度逐层增加,靠近非晶硅掺杂层的第一层靶位TCO导电膜不通氧气,其他每一层的O2/功率逐层增加。

一种渐变叠层TCO导电膜的异质结电池结构,靠近非晶硅掺杂层的第一层靶位TCO导电膜的靶材功率密度为0.135~0.33 w/mm,第二层靶位TCO导电膜的靶材功率密度为1.3~2.5 w/mm,从第三层开始向外的剩余层的TCO导电膜的靶材功率密度为3~6 w/mm。

一种渐变叠层TCO导电膜的异质结电池结构,第二层靶位TCO导电膜的O2/功率为0.5~0.75,从第三层开始向外的剩余层的TCO导电膜的O2/功率为1~2.5。

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