[发明专利]显示装置和制造该显示装置的设备在审
申请号: | 201910664665.5 | 申请日: | 2019-07-23 |
公开(公告)号: | CN110783476A | 公开(公告)日: | 2020-02-11 |
发明(设计)人: | 文在晳;李相信;李丞赈;郑恩汀 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | H01L51/52 | 分类号: | H01L51/52;H01L27/32;C23C14/04 |
代理公司: | 11286 北京铭硕知识产权代理有限公司 | 代理人: | 田野;刘灿强 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示区域 显示装置 对电极 显示元件 薄膜封装层 开口区域 像素电极 功能层 中间层 有机封装层 彼此连接 叠置区域 相邻区域 封装层 异物 基底 制造 覆盖 | ||
1.一种显示装置,所述显示装置包括:
基底,包括开口区域和至少部分地围绕所述开口区域的显示区域;
多个显示元件,位于所述显示区域中,所述多个显示元件中的每个包括像素电极、对电极以及在所述像素电极与所述对电极之间的中间层;以及
薄膜封装层,包括至少一个有机封装层和至少一个无机封装层,所述薄膜封装层覆盖所述多个显示元件,
其中,所述对电极和所述中间层的功能层完全布置在所述显示区域中,所述对电极和所述功能层中的至少一个在所述显示区域中被划分为彼此连接的多个区域,并且叠置区域设置在所述多个区域中的两个相邻区域之间,其中,所述叠置区域通过将每个区域中的所述对电极和所述功能层中的至少一个与相邻区域中的所述对电极和所述功能层中的至少一个叠置来获得。
2.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述叠置区域的边界至少部分地具有凹凸形状。
3.根据权利要求2所述的显示装置,其中,所述凹凸形状是非典型的。
4.一种用于制造显示装置的设备,所述显示装置包括开口区域和至少部分地围绕所述开口区域的显示区域,所述设备包括:
腔室;
源部分,布置在所述腔室中,并且被构造为将沉积材料供应到所述腔室中;
第一掩模组件,被构造为布置在所述腔室中,并且包括第一开口,所述沉积材料被配置为穿过所述第一开口;以及
第二掩模组件,被构造为选择性地布置在所述腔室中以与所述第一掩模组件可置换,所述第二掩模组件包括第二开口,所述沉积材料被配置为穿过所述第二开口,
其中,所述沉积材料被配置为穿过所述第一开口以沉积在显示基底的一部分上来形成围绕所述开口区域的一部分的第一沉积区域,并且被配置为穿过所述第二开口以沉积在所述显示基底的不同部分上来形成围绕所述开口区域的不同部分的第二沉积区域,所述第二沉积区域与所述第一沉积区域不同,其中,所述第一沉积区域和所述第二沉积区域彼此连接以在所述显示基底上形成一个显示区域。
5.根据权利要求4所述的设备,其中,与所述第一沉积区域的边界对应的所述第一开口的一部分和与所述第二沉积区域的边界对应的所述第二开口的一部分中的至少一者具有凹凸形状,其中,所述第一开口的所述一部分和所述第二开口的所述一部分彼此面对。
6.根据权利要求5所述的设备,其中,所述凹凸形状是非典型的。
7.根据权利要求5所述的设备,其中,所述第一开口的所述凹凸形状和所述第二开口的所述凹凸形状彼此结合。
8.根据权利要求4所述的设备,其中,所述第一沉积区域和所述第二沉积区域至少部分地彼此叠置。
9.根据权利要求4所述的设备,其中,所述第一掩模组件和所述第二掩模组件中的至少一个被构造为顺序布置在所述腔室中。
10.根据权利要求4所述的设备,其中,所述第一掩模组件包括朝向所述第一开口的内部突出并被构造为阻挡所述沉积材料的第一突起。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择