[发明专利]微接触压印方法

权利要求书

1.借助结构印模的压印面将压印材料转移到衬底的目标表面上以微接触压印结构的方法，其特征在于，压印材料至少主要地由硅烷构成或者至少主要地由至少一种硅烷衍生物构成，或者为至少主要地由有机分子构成的分子组分，并且其中结构印模为软质印模和具有旋转轴，其中结构印模以辊的形式制造成空心轴，其中该空心轴内的空腔用作压印材料的储存器，其中结构印模具有由孔隙构成的多孔的微结构，其允许压印材料从空腔中通过到达结构的表面上，

所述方法包括：

使压印面与目标表面接触；和

根据所述压印面使用所述压印材料将所述结构压印到所述目标表面上，

所述压印包括：

使所述衬底相对于所述印模移动以围绕所述旋转轴使所述压印面旋转；和

通过所述衬底的所述移动将所述压印材料从所述压印面转移到所述目标表面上。

2.根据权利要求1的方法，其中所述分子组分具有以下提到的结构的至少一种或者多种：

- 酶、

- 生物碱、

- 脂质、

- 激素、

- 信息素、

- 维生素、

- 碳水化合物、

- 肽、

- 核酸、

- DNA或者DNA-链、

- 细胞、

- 蛋白质或者肽、

- 烷烃、烯烃、炔烃、芳族化合物、

- 石墨烯。

3.根据权利要求1的方法，其中所述结构印模具有10^-3 MPa至100 MPa的弹性/弹性模量。

4.根据权利要求3的方法，其中所述结构印模具有10^-2 MPa至80 MPa的弹性/弹性模量。

5.根据权利要求3的方法，其中所述结构印模具有10^-1 MPa至60 MPa的弹性/弹性模量。

6.根据权利要求3的方法，其中所述结构印模具有3 MPa至40 MPa的弹性/弹性模量。

7.根据权利要求1的方法，其中所述结构印模是耐酸和/或耐碱的。

8.根据权利要求1的方法，其中所述结构印模至少主要地由惰性材料构成。

9.根据权利要求8的方法，其中所述结构印模完全地由惰性材料构成。

10.根据权利要求1的方法，其中所述结构印模由聚合物形成。

11.根据权利要求10的方法，其中所述结构印模由PFPE或者PDMS形成。